光刻胶底膜处理：清洗：清洁干燥，使硅片与光刻胶良好的接触。烘干：去除衬底表面的水汽，使其干燥，nr9 3000p光刻胶报价，增粘处理(涂底)： 涂上增加光刻胶与硅片表面附着能力的化合物，nr9 3000p光刻胶，hmds，光刻胶疏水，sio2 空气中，si-oh， 表面有，亲水性，使用hmds （h2c）6si2nh 涂覆，熏蒸 与 si –oh结合形成si-o-si(ch2)2，与光刻胶相亲。
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四、前烘（soft bake）
完成光刻胶的涂抹之后，需要进行软烘干操作，这一步骤也被称为前烘。前烘能够蒸发光刻胶中的溶剂溶剂、能使涂覆的光刻胶更薄。
在液态的光刻胶中，溶剂成分占65％－85％。虽然在甩胶之后，液态的光刻胶已经成为固态的薄膜，但仍有10％－30％的溶剂，nr9 3000p光刻胶哪家好，容易沾污灰尘。通过在较高温度下进行烘培，可以使溶剂从光刻胶中挥发出来（前烘后溶剂含量降至5％左右），从而降低了灰尘的沾污。同时，这一步骤还可以减轻因高速旋转形成的薄膜应力，从而提高光刻胶 衬底上的附着性。
在前烘过程中，由于溶剂挥发，光刻胶厚度也会减薄，一般减薄的幅度为10％－20％左右。
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