表一:《gb-t 11446-2003》电子水等级
水中杂质可分为两类:一是悬浮杂质,包含细菌、病毒、有机物、胶体等;二是溶解在水中的小分子和离子,包括溶解性气体、盐类及少量重金属离子。
超纯水制备通常由预处理、脱盐、后处理三大部分组成。半导体行业所使用的超纯水(电阻率≥18mω/cm)通常采用“预处理(机械过滤)+二级ro +edi装置+抛光混床(mmf+acf+二级ro +edi+smb)”的工艺。
而edi电去离子技术的应用对前端来水toc及sio2等有严苛的要求,toc要求控制在0.5*10-6mg/l以下,sio2控制在0.4*10-6mg/l以下,安力斯uv-toc系列产品使用185nm和254nm双波段紫外灯,低耗高效去除水中toc、sio2游离氯、铁等微量污染物。
图一:二级ro+edi超纯水制备工艺
关键词:电子元器件
