半导体工业的污水应该怎么处理？
方法/步骤
含氟离子废水处理：
将废水的p h值调整在6-7左右，再加入的过量的ca cl2和适量的絮凝剂，后续会行形成沉淀，部分污泥循环成为载体，在沉淀池中通过重力沉降能够实现泥水分离。
次反应时能够去除80%的氟，纯水设备再一次加入絮凝剂，氟化钙及其其他形态沉淀，利用污泥泵输送到污泥沉淀池,用板框式脱水机压成泥饼外运，这时候产生的压滤液进入其他的系统进一步处理。
含磷离子废水处理：
含磷废水中磷主要以po43-为主，采用的方法为化学沉淀法和混凝剂沉降法的组合工艺，通过加入ca cl2生成难溶于水的ca5(po4)3oh沉淀。
一级反应池的p h调整到5-6左右，二级反应池p h调整到8.5-9，三级反应池p h调整到9-9.5(确保生成羟基磷酸钙)，纯水设备此工艺流程比较简单，费用也比较低，对于含磷废水处理有很大的适用性。
与研磨废水进行混合：
将半导体器件制造中产生的电镀废水和研磨废水进行混合，混合废水泵入浸没式膜过滤装置过滤，过滤的水泵入纳滤膜过滤装置过滤，经过纳滤膜过滤装置过滤的水即可直接回用。苏州皙全皙全纯水设备公司可根据客户要求制作各种流量的纯水设备，实验室纯水设备,gmp医用纯化水设备，半导体超纯水设备。
关键词：纯水设备 絮凝剂 污泥泵 混凝剂 纳滤膜