(1)合上电源开头，打开冷却水冷却，冷却转鼓，应充分注意冷却鼓中应始终保持有冷却水供应，防止烧坏机件。停机过程中也应继续供水，直到整个系统冷却到常温后才能停止供水。
(2)按上开启动力柜的电按钮，使动力柜和装在一起的冷却鼓及收放卷轴从高真空蒸镀室分开，在放卷轴上放置待镀基材膜，引膜通过狭口及冷却转鼓到收卷轴，点动收放轴同步力矩马达，检查基膜收放张力是否合适并调整之。
(3)安放石墨坩埚及铝丝，铝丝卷绕在铝丝盘上，不能有任何微小的弯曲，否则铝丝无法在不锈钢管内送入石墨坩埚中，放置完毕后，应启动自动送丝电机，检查并调节送丝是否正常。
(4)闭合动力柜，打开蒸镀室中的灯光，开动粗抽真空泵，同时观察安装在蒸镀室上方的压力表，经5-10min后，压力表迅速下降到最低点时，启动抽中真空泵，并把真空计仪表按钮拧到热偶一侧，检查指针0和满标是否符合，如不符，用手轻轻旋转指针使之符合0和满标的刻度。把选择开关拧到测量，待测量值达到100pa时，启动抽真空泵，把仪表选择按钮拧到电离一侧，测量高真空度，达到10-2-10-3pa时，即可真空镀膜。抽真空时间大约需要45-60min。
(5)打开坩埚加热器，把1,2,3只加热器的电流调节到温度可以达到1450℃，铝丝迅速在坩埚中溶融并气化，启动自动送丝电机，转动基材收放卷轴的同步力矩马达，调节速度，密切观察铝丝熔解和蒸发情况，使送丝速度同蒸发速度相配合一致。送丝太快，铝丝会顶住坩埚而折断，太慢会蒸发量不够，镀层薄。这都可以通过观察孔来观察。
(6)已经调节合适后，不能再多动，因为系统已经达到了平衡，只需密切观察并做好记录。全部镀完后，声速切断蒸发器电流，切断自动送丝电机电流，停止主电机并移开动力柜，取下已蒸镀了的薄膜，检查质量后包装出厂。
真正的真空镀铝膜，还应当在镀铝层上涂布双组分聚氨酯胶粘剂作顶涂层，以保护镀层不被磨损掉，真空镀铝不应特别注意真空度，真空度达不到的镀层呈黑色，氧化严重，不能使用。清洗真空镀膜机时，可以使用弱碱性的溶液浸渍蒸发室中的零部件，然后用铜刷清洗，水和酒精冲洗，红外灯干燥。真空镀铝常见的故障及解决办法如表7-9所示。
表7-9 真空镀铝常见的故障及解决办法
故 障
原 因
解决办法
1.镀层表面变色
1.真空度低
2.蒸发速度慢
3.铝层偏厚
1.提高真空度,检查是否有漏气,薄膜是否吸水太多,薄膜卷取太松,内中夹杂着空气
2.加大蒸发速度,提高坩埚加热功率
3.提高蒸镀速度,降低蒸镀厚度
2.有漏镀孔洞
1.基材膜表面有脏物和油腻
2.镀铝层过薄
1.清洁基材表面
2.提高镀膜厚度:放慢收放卷速度,加大蒸发量
3.基材膜拉断
1.生产过程中,用手调快了收卷速度,而同步放卷速度还未来得及跟上同步
2.基材膜因水分蒸发发脆,强度下降而扯断
3.双向拉伸薄膜边缘分切处有制品
1.已经调整好了的收放卷速度不要随便用手动,即使要调整也只能缓慢调快收卷速度,由于是同步力矩电机,放卷也会慢慢跟上收卷速度的
2.不能使用强度低的,挥发水分多的薄膜用于直接蒸镀
3.注意双向拉伸膜切边处光滑,不留切口
4.镀铝附着力低,易被胶带粘走,易揉搓脱落
没有使用底涂胶
应使用底涂胶
5.气泡
1.真空度低
2.基材表面有污染，,如油腻等
1.提高真空度
2.清洁基材表面
6.灰点
真空室脏
清洁真空室
7.纹路
基材厚薄不均匀,基材易拉伸,收卷后出现横向纹路
1.选择基材强度好,厚度均匀性好的基膜
2.降低收放卷张力
8.局部烘伤
1.坩蜗电热功率过大,温度过高
2.未气化的金属小颗粒被气化金属带出,落在薄膜上形成烧伤痕
1.降低坩埚加热电流功率,使之合适
2.缓慢升高电加热功率,防止升温过快,蒸发量过大
9.真空度在镀膜开始后不久就降下来,同时镀膜发黑
1.镀膜基材含水量及挥发性物质过多,放卷后使真空室真空度下降,镀膜发黑
2.镀膜基材收卷太松,中间夹杂了空气
3.印刷膜真空镀铝时,由于印刷干燥不充分,高真空下油墨中残留溶剂挥发出来,使真空度下降
1.镀膜基材应存放在干燥处,防止吸湿,吸湿了的薄膜不能镀机
2.镀膜基材应重新收卷,在复卷机或分切机上复卷时张力稍提高
3.充分干燥印刷油墨
10.提高真空度时,真空度上不去
1.机器太脏需要清洗
2.真空泵油太脏,需换油
3.冷却水温太高
1.清洗机器,尤其是检查真空管道是否有堵
2.更换真空泵油
3.降低冷地水温,不超过30℃
真空镀铝膜的用途如下：
咖啡包装 0.0121mm的真空镀铝尼龙/0.05mmldpe
快餐包装(土豆片) 0.019mm真空镀铝bopp/0.022mm真空镀铝cpp
各种调味品 0.0121mm真空镀铝pet/0.038mmmdpe
贮酒袋 0.05mm离子型薄膜/0.0121mm金属化定向尼龙/0.076mmeva
菜肴 玻璃纸/0.022mm真空镀铝cpp或者bopp/0.022mm真空镀铝cpp
塑料的真空溅射
真空溅射法是以金属或非金属为靶子材料，在高真空下受离子化分子的轰击，被轰击出来的原子在氩等离子体下离子化，并在强大的电磁场能量的推动下，在塑料等基材的已处理表面上堆镀，从而产生有光泽的使用寿命长的镀膜，真空溅射的示意图如图7-1所示。
真空溅射同蒸镀相比有不少优点：(1)它不使用到加热元件，不需要高温，因而蒸镀膜不需要良好的耐高温性；(2)溅射是在强大的电磁场的推动力下使用离子化了的分子轰击在被镀材料表面，不仅在表面，还部分进入被镀薄膜分子内部，为此它同基材的附着力大大超过依靠气化了的金属原子在冷的表面的堆积力；(3)可供溅射的金属范围相当广泛，不仅可以是低沸点的易气化的金属，高沸点金属，如不锈钢等都可以用于溅射，甚至可以使用到非金属材料sio2之类材料。同真空蒸镀一样，真空溅射的基材也需要有适当的底涂和顶涂，以获得更大的粘结力和良好的镀层保护。
真空蒸镀和溅射技术最近有了很大的发展，不仅可以溅射各种金属，而且可以用不同的金属放在一起溅射。真空蒸镀机也由单室转变成双室。使用高真空下产生等离子体，从而使蒸发源发出的粒子产生离子化，再在电磁场力作用下镀在薄膜上有较好效果。可以利用o2、n2甲烷等的气体等离子体，把各种化合物膜蒸镀在基膜上，因而蒸镀的品种范围大大扩大了，应用也更为广泛了。
各种实用蒸发源的比较如表7-10所示。
表7-10 各种实用蒸发源的比较
蒸发源的型式
电阻加热法
高难度频加热法
电子束加热法
适用的蒸发物
al,ag,ni,cr,cu
al,cu,ag
in2o3、sno2,siox、al2o3,
si、ta,w,ni,fe,ti
蒸发速度的稳定性
稳定
稳定
稍不稳定
加热开始到蒸发的时间
5min
10min
10min
从蒸发源发出的气体
少
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