原子层沉积ald在钙钛矿电子传输层、空穴传输层、钝化层、封装阻水层等领域已取得了突破性进展,获得了业界的认可。为了更高效地服务于世界光伏产业高地,原速也在上海建立了技术研发中心。截止目前,已形成服务于钙钛矿电池研发、中试、100mw、gw级量产的产线ald技术解决方案。
1、ald-sno2 应用于钙钛矿电池电子传输层
• ald 相比于传统沉积技术,在制备超薄膜时具有更优异的均匀性和保形性,以及缺陷更少的优点
2、ald-nio 应用于钙钛矿电池空穴传输层
• ald 可用于制备性能优异的超薄(<10 nm)nio 空穴传输层
3、ald 应用于钙钛矿电池钝化层
• ald 超薄膜可以应用于界面处,通过和悬挂键反应的方式减少表面缺陷,或者排斥载流子,达到钝化的效果
4、ald 应用于钙钛矿电池封装
• 致密的 ald 膜可达到有效的阻水氧的效果