销售工程师 陈先生
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抽屉式uv光清洗机（紫外臭氧清洗机）bzs250gf-tc适用小型基片清洗，如液晶面板，ito导电膜玻璃，光学玻璃，oled，lcd，硅片，陶瓷，金属片，聚合物，硅胶等表面清洗，用于清洗产品的表面有机物，即进行表面改质，从而获得较好的亲水性。可提供客户化设计。 可选择清洗面积：6英寸-150*150mm，8英寸-200*200mm，12英寸-300*300mm，16英寸-400*400mm
产品配置
电源：220v；
灯管：特殊格册状灯管（进口石英材料），250w，寿命5000小时；
主要工作光谱：185nm+254nm
有效清洗面积：6、8、10、12、16英寸（可选择其中一种）
清洗时间控制器：0-99.99小时或分钟；
寿命计时器：计算灯管使用寿命；
照射高度： 20-100mm，可通过托盘四边螺母调节高度;
uv on/off指示，异常指示/警报;
灯管预热：具灯管预热提示功能，15分钟;
排风功能：自带抽风系统，可调节风速，8cm直径出风口，配置风管及铝胶带；
应用领域
■在进行薄膜沉积之前先进行基片清洗。清除浮渣和稳定化处理光刻胶。超高真空度密封。
■清洗硅芯片，透镜，反光镜，太阳能面板，冷轧钢，惯性引导零件和 gaas芯片
■清洁焊剂，混合电路以及平板lcd显示器
■蚀刻特氟隆，氟橡胶以及其它有机材料
■增强gaas 和si氧化物钝化表面
■增强玻璃的除气作用
■基片蓝膜去除
■增强塑料表面的镀膜的粘附性
■基片终测后墨迹清楚
■去除光刻胶
■平板显示器/液晶显示器
■去除光刻机台上的光刻胶残留物
■在电路板封装和打片之前清洗）
■光纤
■增强表面亲水特性
■为生物科学应用做清洗和消毒
■光学透镜
■其它应用
紫外光清洗工作原理
vuc低压紫外汞灯能同时发射波长254nm和185nm的紫外光，这两种波长的光子能量可以直接打开和切断有机物分子中的共价键，使有机物分子活化，分解成离子、游离态原子、受激分子等。与此同时，185nm波长紫外光的光能量能将空气中的氧气（o2）分解成臭氧（o3）；而254nm波长的紫外光的光能量能将o3分解成o2和活性氧（o），这个光敏氧化反应过程是连续进行的，在这两种短波紫外光的照射下，臭氧会不断的生成和分解，活性氧原子就会不断的生成，而且越来越多，由于活性氧原子（o）有强烈的氧化作用，与活化了的有机物（即碳氢化合物）分子发生氧化反应，生成挥发性气体（如co2，co，h2o，no等）逸出物体表面，从而彻底清除了粘附在物体表面上的有机污染物。 紫外光表面清洗原理表达式：
低压紫外汞灯发射的185nm和254nm波长的紫外光除有清洗去除物体表面的有机污染物的功能外，而且还能够进行表面改质。其基本原理为：光子能量把物体的表层分子键打开的同时拉出h原子和c原子，与空气中的氧气分解出来的活性氧（o）生成极性很强的原子团（oh，cho，cooh）即羟基等活性基，同时材料表面有机污染物的清洗效果显著，活化的基体表面具有良好的粘合力和键合特性，这些羟基和涂料、粘合剂、电镀材料相结合，形成新的化学键，从而使材料表面得到通常情况下得不到的很强的粘结强度，或者使材料得到稳定的表面性能。
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