用盐溶剂处理溶体最主要的是减少氧化物和非金属内含物的含量。溶剂或溶剂的混合物以片状或颗粒的形式浸入到溶体中并慢慢溶解。细粒或粉末洒在熔体的表面并溶解。他们可能通过叶轮机械地搅拌进熔体中或手动搅拌进去。以类似的方式也可以引进颗粒、低共熔硅的调节剂以及最初的成核的硅到溶体中。选择的熔剂的组成是为了适合要达到的目的，无论需要清理或是改变微观结构；在任何情况下，这种混合物要在大概750℃左右的温度熔化或溶解已达到好的效果。盐被用作与熔体精细混合，盐也可以被用作覆盖溶剂。不同的覆盖溶剂用作不同的目的；干燥氧化的熔渣以便简单的除掉；提供降低氧化作用和氢气获得量的阻碍；减少氢元素的烧化，如钠，镁；或者通过缓慢释放来维持组分，如钠。释放钠的元素在ai-mg合金中不被使用，因为钠对性质有害，尝试用氯化镁代替。我们必须清楚，这些溶剂中含有结晶水，并将吸收与空气中的湿气，因此他们要在干燥的条件下储藏否则要在使用以前用250℃的温度预加热。含有氯化物的溶剂具有侵袭炉子衬里的缺点。它们同样也腐蚀坩埚材料，腐蚀碳化硅的程度要比黏土石墨的程度低。
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