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晋宇达(在线咨询) 光刻机 福州光刻机

2018/10/25 13:26:42发布41次查看
张家港晋宇达电子科技有限公司
硅片直径300mm 要适合多代技术的需求
在刻蚀方面如英国trikon公司采用的螺旋波等离子体(mori)源,在电磁场作用下控制等离子体和改善均匀性,它能在300mm片内对氧化物介质均匀地刻25nm通孔,深/宽比达30:1。目前300mm片径生产180nm、150nm、130nm的ic设备都已进入生产线,100nm的也开始提供。
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从晶体管问世算起,半导体技术的发展已有多半个世纪了,现在它仍保持着强劲的发展态势,继续遵循moore定律即芯片集成度18个月翻一番,每三年器件尺寸缩小0.7倍的速度发展现在片径已达300mm,dram半节距已达150nm,mpu栅长达100nm。大尺寸、细线宽、高精度、高效率、低成本的ic生产,对半导体设备带来前所未有的挑战。
晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备        
光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。
公司透过从技术维修服务的突破性整合,致力缔造企业核心竞争力,以客户为中心、服务为核心和销售作为经营理念,为大陆提供优质服务为宗旨的企业思想,对于一些重点客户及在长三角,珠三角,北京等地,我公司在香港、上海、无锡、张家港等地设立了分公司及办事处,并长期有工程师驻扎。

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