气相沉积按形成的基本原理，分为物理气相沉积（pvd）和化学气相沉积（cvd）。
pvd分为真空蒸镀、溅射镀和离子镀。离子镀是蒸镀和溅射镀相结合的技术，离子镀膜具有粘着力强、均镀能力好、被镀基体材料和镀层材料可以广泛搭配等优点，因而获得较广泛的应用。近年来，多弧离子镀受到人们的重视。目前，在模具上应用较多的是离子镀tin，这种膜不仅硬度高，而且膜的韧性好、结合力强、耐高温。在tin基础上发展起来的多元膜，如（tial）n、（ticr）n等，性能优于tin，是一类更有前途的新型薄膜。
cvd是用化学方法使反应气体在基础材料表面发生化学反应形成覆盖层（tic、tin）的方法。cvd有多种方法。通常，cvd的反应温度在900℃以上，覆层硬度达到2000hv以上，但高的温度容易使工件变形，沉积层界面易发生反应。发展趋势是降低温度，开发新的涂层成分。例如，金属有机化合物cvd（mocvd），激光cvd（lcvd），等离子cvd（pcvd）等。
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