shnp系列纳米氧化铈抛光质量稳定,粒度可控,颗粒度分布集中,并具有以下特点:
1、 软硬度适中、不划伤被抛物面。
2、 悬浮性好,不易沉淀,使用方便。
3、 分散性好、乳液均一,极大提高了抛光效率和精度。
适用领域:
适用于dsti-cmp、集成电路光掩模、高精密光学仪器、光学镜头、液晶显示屏、多芯光纤连接器、微晶玻璃基板、晶体表面等方面的精密抛光。
技术指标:
型号
粒度(d:50,μm)
浓度(wt%)
ph
适 用
shnp-08
0.05-0.09
20-40
7-9
dsti-cmp等
shnp-2
0.1-0.2
20-40
7-9
dsti-cmp等
shnp-4
0.3-0.4
20-40
7-9
高精密光学仪器等
shnp-6
0.5-0.6
20-40
7-9
高精密光学仪器等
shnp-8
0.7-0.8
20-40
7-9
高精密光学仪器等
shnp-10
0.9-1.0
20-40
7-9
高精密光学仪器等
shnp-12
1.1-1.2
20-40
7-9
多芯光纤连接器等
shnp-15
1.3-1.5
20-40
7-9
多芯光纤连接器等
备注:以上也可根据用户需要不同浓度和不同粒度而调整。
注意事项:
1. 以防少许沉淀,建议使用前先摇匀。
2. 使用时,以不同浓度并据不同行业的需要可用过滤清洁水加以稀释,调制不同浓度

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