等离子抛光设备简介：
等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正电的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。
本产品采用的抛光技术是一种完全不同传统方法的新型抛光技术，称之为液态电浆抛光技术。此抛光技术是根据电化学原理与化学反应原理而研发设计的。是利用电解质成分、电解质水溶液浓度与温度、电压及电流密度对工件表面粗糙度、光泽度、反射率等表面特性的关联，而研发出最适合操作的新型抛光技术。
等离子抛光设备 主要特点:
(1)根据工件尺寸的不同,可以使工件在几十秒至2分钟内达到近镜面的抛光效果,使后续处理十分方便;
(2)在抛光过程中有效去除冲压件或其它制造件的边角毛刺;
(3)抛光过程中使工件表面产生一层钝化膜,使其保持耐久光亮,增强抛光面的抗腐蚀性能;
(4)抛光均匀程度优越,整个工件表面甚至于所有死角部位都可达到一致的近镜面效果;
(5)抛光过程由电参数控制,全过程采用进口plc自动化控制,操作简单,维护方便;
(6)生产效率高,生产成本低;
(7)抛光过程不产生化学污染【低浓度药剂(95%~97%水+3%~5%的药品,ph值约6.5~7)】.
(8)清洁能力:edtm系统不但定位为快速抛光机构之外,同时亦适合作为各种形状合金表面的去污、除脂、去氧化层、清洁残留杂质及化学药物,提供工件表面镀膜前的前置处理.