圆形磁控溅射靶圆形磁控溅射靶直径范围为：50～250mm；靶结构材料选取适合高真空的优质不锈钢和铜合金材料；磁场源采用稳定性最高的稀土钐钴永磁材料；磁场采用模块化排布并进行优化设计，有效地提高靶材利用率和设备稳定性；冷却水循环量为1l/min，能有效的保证设备的冷却效果；根据不同设备可以配置不同角度的安装头；采用φ20不锈钢导管，复合法兰进行安装，适用于高真空高纯度镀膜。另外其他特殊性能可根据客户需要进行设计。圆形磁控溅射靶应用领域：直径50～150mm靶主要应用于大专院校与科研院所研究性磁控溅射镀膜设备使用；直径150mm以上靶为生产型磁控溅射镀膜设备采用
深圳市天源表面技术开发有限公司
黄秋娇
18664060504
东莞市大岭山杨屋第二工业区