温度对微弧氧化的影响
微弧氧化与阳*氧化不同,所需温度范围较宽。一般为10—90度。温度越高,成膜越快,但粗糙度也增加。且温度高,会形成水气。一般建议在20—60度。由于微弧氧化以热能形式释放,所以液体温度上升较快,轻金属微弧氧化,微弧氧化过程须配备容量较大的热交换制冷系统以控制槽液温度。所以微弧氧化过程中一定要控制好温度。微弧、微弧氧化、微弧氧化技术、微弧氧化电源
微弧氧化技术是近年来发展起来的一种铝、镁合金表面陶瓷化处理技术,它是铝、镁合金在电解液中通过高压电场作用下的放电火花烧结,在其表面生成一层由α-al2o3 和γ-al2o3为主要成分并与基体形成冶金结合的氧化铝(或氧化镁)陶瓷层,氧化铝(或氧化镁)陶瓷层的高硬度、高阻*和稳定性满足铝、镁合金防海水腐蚀和高温热蚀以及改善其*性等。
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