双*性脉冲中频靶电源一般带孪生靶或双靶运行。两个靶的工作电压*性相反同时又不断互换*性，电压*性为负时的磁控靶发生溅射，*性为正时的那个磁控靶不产生溅射。由于阴阳*间电场正负*性来回变化，使电子路径延长，与工作气体碰撞次数增加，故单个磁控靶承载同样功率(其它真空环境条件相同)时，选用双*脉冲中频靶电源比用纯直流靶电源和脉冲直流中频靶电源时，工作气体的离化几率和靶材的沉积速率均要高一些。磁控靶阴*电压*性为负时，其单脉冲气体放电应与直流气体放电伏-安特性曲线异常辉光放电段及之前段的变化规律(趋势)相符。
湖北丰热科技有限公司（原武汉离子热处理研究所），*制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业；是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉，丰派辉光离子渗氮，并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。
辉光离子渗氮的特点有：离子轰击有净化表面作用，自动去除钝化膜，不锈钢、耐热钢材料无需预先去除钝化膜，可使不锈钢、耐热钢工件直接渗氮。化合物层结构、渗层厚度和组织可以控制。处理温度范围较宽，即使在350℃以下也能获得一定厚度的渗氮层。
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继续提高电压，导致带电离子的增加，放电电流随之上升;当电*间的放电电压大于某一临界值(点火起辉电压)时，放电电流会突然迅速上升，阴-阳*间电压陡降并维持在一个较低的稳定值上。工作气体被击穿、电离，并产生等离子体和自持辉光放电，这就是“汤生放电”的基本过程，又称为小电流正常辉光放电。
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