hmds涂布机，hmds涂胶机用途：
在 mems 产品的研发过程中，在 pz 层去胶之后发现有严重的侧向腐蚀现象。这种现象可以直接从显微镜目检中检查出，而且在整个晶圆的表面呈现无规则的分布。这种过腐蚀现象会严重的影响到 mems 产品的性能。然儿涂胶前处理的hmds 涂布只会影响到光刻胶与衬底之间的黏附性，对其他工艺参数的影响十分微小，这对于改善光刻胶与衬底之间的黏附性问题，是十分有利的。
hmds涂布机，hmds涂胶机原理：
在提升光刻胶的黏附性工艺中，实际上hmds(六甲基二硅烷)并不是作为粘结剂所产生作用的，而是hmds 改变了 sio2 的界面结构，从而使晶圆的性质由亲水性表面转变为疏水性表面。
光刻胶与晶圆表面之间的黏附性问题，除了受到分子键合的影响，还受到其他重要因素的影响。如表面的水分就是其中的主要因素，会减少黏附性，从而造成掀胶和侧向腐蚀。hmds 涂布是涂胶前对硅片表面进行处理，可以增加硅片表面水分子的接触角，使硅片表面从亲水性转化为疏水性。
hmds 一般采用蒸汽涂布的方式。简单评价晶圆的表面黏附性好坏，可以将晶圆进行 hmds 涂布，然后在晶圆的表面滴一滴水珠，然后通过测量水珠的接触角，来进行晶圆表面黏附性好坏的判断。当接触角角度越大，说明黏附性越好，也就意味着疏水性越强。
hmds涂胶机技术指标：
1、设备名称
hmds涂胶机
2、设备型号
js-hmds90
3、设备主要技术参数
3.1 内腔尺寸
450×450×450（mm）可选其他数据
3.2 材质
外箱采用冷轧板喷塑、304不锈钢，内箱采用316l医用级不锈钢
3.3 温度范围
rt+10-200℃
3.4温度分辨率
0.1℃
3.5温度波动度
≤±0.5
3.6真空度
≤133pa（1torr）
3.7洁净度
class 100，设备采用无尘材料，适用100级光刻间净化环境
3.8电源及总功率
ac22±10%/50hz 总功率约2.5kw
3.9 控制仪表
人机界面
3.10搁板层数
2层
3.11 hmds控制
可控制hmds药夜添加量
3.12真空泵
油泵、干泵