正性光刻胶和负性光刻胶
光刻胶可依据不同的产品标准进行分类。按照化学反应和显影的原理，金属光刻胶，光刻胶可分为正性光刻胶和负性光刻胶。如果显影时未*部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相反，金属光刻胶厂家，称为负性光刻胶;如果显影时*部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相同，称为正性光刻胶。
在实际运用过程中，金属光刻胶供应商，由于负性光刻胶在显影时容易发生变形和膨胀的情况，一般情况下分辨率只能达到 2 微米，因此正性光刻胶的应用更为广泛。
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光刻胶可以分为哪几类
光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶。反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。
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微流控芯片硅片模具加工如何选择光刻胶呢？
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一般来说线宽的用正胶，线窄的用负胶，正性光刻胶比负性的精度要高，负胶显影后图形有涨缩，负性胶限制在2~3μm.，而正性胶的分辨力优于0.5μm 导致影响精度，正性胶则无这方面的影响。虽然使用更薄的胶层厚度可以改善负性胶的分辨率，但是薄负性胶会影响。同种厚度的正负胶，在对于*湿法和腐蚀性方面负胶更胜一筹，正胶难以企及。
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