离子溅射镀膜，多半是在反应气体存在下进行的，化合物沉积膜的稳定性和光学常数，塑料纳米镀膜设备，依赖于气体的类型和阴*材料。常用的反应气体为氧气，常用的阴*材料有铁、镍、铜铅等，有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属。反应溅射形成的氧化物是属于有吸收而折射率不是很高的镀膜材料。
纳米镀膜设备排气系统一般由机械泵、扩散泵、管道和阀门组成。为了提高抽气速率，可在机械泵和扩散泵之间加机械增压泵。因此，排气系统既要求在较短的时间内获得低气压以保证快速的工作循环，也要求确保在蒸气镀膜时迅速排除从蒸发源和工作物表面所产生的气体。
蒸发系统包括蒸发源和加热蒸发源的电气设备。电气设备包括测量真空和膜层厚度及控制台等。
在真空条件下加热工件，主要依赖辐射。由于辐射传热与温度的4次方成比例，所以在850℃以下辐射效果不高，工件加热速度很慢；其次，饰品纳米镀膜设备，因为金属材料中的某些合金元素在低压条件下加热时有蒸发损失现象，会造成表面合金元素的贫乏，橡胶纳米镀膜设备，以致影响其淬火后的表面层性能。对流加热技术是指先将真空镀膜设备真空炉炉膛抽到一定真空度，然后通以0．1—0．2mpa的惰性（ar、he）、中性（n2）或还原性（h2）气体，并在充分搅动条件下施行加热，与在单纯真空条件下比较，加热速度至少可提高一倍以上。
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