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由于光刻胶的技术壁垒较高，国内光刻胶市场基本被国外企业垄断。特别是高分辨率的krf和arf光刻胶，基本被日本和美国企业占据。
国内光刻胶生产商主要生产pcb光刻胶，面板光刻胶和半导体光刻胶生产规模相对较小。国内生产的光刻胶中，pcb光刻胶占比94%，lcd光刻胶和半导体光刻胶占比分别仅有3%和2%。
国内光刻胶需求量远大于本土产量，nr9 1500py光刻胶报价，且差额逐年扩大。由于国内光刻胶起步晚，目前技术水平相对落后，生产产能主要集中在pcb光刻胶、tn/stn-lcd光刻胶等中低端产品，tft-lcd、半导体光刻胶等高技术壁垒产品产能很少，仍需大量进口，从而导致国内光刻胶需求量远大于本土产量。
光刻胶可以分为哪几类
光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶。反之，nr9 1500py光刻胶哪家好，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。
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光刻胶的主要技术参数
1．灵敏度（sensitivity）
灵敏度是衡量光刻胶*速度的指标。光刻胶的灵敏度越高，所需的*剂量越小。单位：毫焦/平方厘米或mj/cm2。
2．分辨率（resolution）
区别硅片表面相邻图形特征的能力。一般用关键尺寸（cd，critical dimension）来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小，nr9 1500py光刻胶，光刻胶的分辨率越好。
光刻胶的分辨率是一个综合指标，影响该指标的因素通常有如下3个方面：
(1) *系统的分辨率。
(2) 光刻胶的对比度、胶厚、相对分子质量等。一般薄胶容易得到高分辨率图形。
(3) 前烘、*、显影、后烘等工艺都会影响光刻胶的分辨率。
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