【minilab系列柔性薄膜实验设备】可根据各种客户要求模块化配置进行定制。 我们还满足高规格要求，如多路溅射、气相沉积、多维同步成膜和多腔室系统。 所有组件都存储在 19 英寸机架（单、双、三）的紧凑框架中，所有操作和数据管理都可以通过单个 7 英寸触摸面板（或 windows pc）集中管理。 我们通过与手套箱无缝连接、气相沉积掩模/基板自动转换器、去除 1d/pmma 等抗蚀剂的“软蚀刻”和晶圆级石墨烯合成设备 [nanocvd-wgp（minilab-2 的应用设备）]等原创技术为研究和开发做出贡献。
真空沉积（金属和有机材料）
磁控溅射
电子束沉积
射频/直流等离子体蚀刻
退火
热cvd
相关产品介绍
minilab系列柔性薄膜实验室设备由于它是模块化的内置类型，因此可以根据所需的膜类型和工艺组装专用机器。 灵活的紧凑型实验设备，可用于各种用途。
ml-gb-026/090手套箱薄膜实验室设备通过将pvd腔室存储在gb中，可以在“无氧/无湿气”的实验环境中无缝执行气相沉积，飞溅和退火等所有操作。
纳米cvd-wgp晶圆级石墨烯合成器φ3英寸和φ4英寸晶圆尺寸的石墨烯合成器。 通过抑制杂质高速合成清洁、高质量的石墨烯。 它可用于热cvd或低温/高温等离子cvd。
纳米炉热cvd机紧凑型台式热壁式热cvd系统。 4.工艺气体系统，高精度apc工艺压力控制。 均匀加热实验可以在反应管中的稳定气氛中进行。
pld-1000 pld薄膜沉积设备蓝波半导体 pld1000