真空镀膜仪以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子炮击材料外表，使其溅射出进入气相，可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额，产额越高溅射速度越快，以cu，au，ag等高，ti，mo，ta，w等低。一般在0.1-10原子/离子。离子能够直流辉光放电发生，在10-1-10 pa真空度，在两极间加高压发生放电，正离子会炮击负电之靶材而溅射也靶材，而镀至被镀物上。
真空镀膜仪为何要进行定期的清洗？
镀膜仪使用时间久了之后要定期进行清洗。在真空镀膜仪使用镀膜材料进行镀膜之前，对镀膜材料做简单的表面清洁能延长镀膜仪使用寿命，因为各种污染物不仅使真空系统不能获得所要求的真空度，还会影响真空部件连接处的强度和密封性能。
真空镀膜仪的常见的污染物包括：
1.油脂（包括加工、装配、操作的时候沾染上的润滑剂、切削液、真空油脂等）；
2.操作时候的手汗，吹气的时候的水汽和唾液等等；酸、碱、盐类物质清洗时的残余物质、手汗、水中的矿物质等；还有抛光残渣及环境空气中的尘埃和其它有机物。
清洁好这些污染物的目的是为了改进真空镀膜仪的工作稳定性，使镀膜仪的工作可以更顺利的进行。