超纯水系统被称之为半导体行业的血脉，半导体行业又是一个高能耗的行业，在半导体产品制造过程中，由于生产设备的精密性和生产工艺的复杂性，对其配套设施提出了很高的要求。
在芯片、集成电路等生产中，由于半导体元件集成度高，生产线窄，对水质要求特别高，超纯水成为了电子行业的“标配”，超纯水中的碱金属(k、na等)会使绝缘膜耐压不良，重金属(au、ag、cu等)会使pn结耐压降低，iii族元素 (b、al、ga等)会使n型半导体特性恶化，v族素(p、as、sb等)会使p型半导体特性恶化，水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20%~50%) 会使p型硅片上的局部区域变化为n型硅而导致器件性能变坏。水中的颗粒(包括细菌)如吸附在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。可见，超纯水在半导体行业中的重要性。
半导体超纯水设备出水水质要符合美国astm纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准(18 mω.cm、15 mω.cm、10 mω.cm、2 mω.cm、0.5 mω.cm)、我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。
国内的超纯水设备厂家很多，工艺也比较透明，目前的超纯水设备工艺是二级反渗透+edi装置 出水电阻率达到15兆欧，或者双级反渗透系统+edi+抛光混床工艺，出水电阻率可达18兆欧。
超纯水系统的主要部件之一是ro反渗透膜，ro膜的价格和寿命是超纯水系统设计中重要的考虑因素，假如反渗透膜都采取国外进口，超纯水设备价格会超出许多，虽然国外反渗透膜超滤膜起步比我们早，但国内一些优秀的膜厂家经过多年精进发展，产品质量稳定，而且售前售后服务也比较到位，价格较进口膜有很大的优势，占有率越来越高。
在超纯水制造工艺中，传统预处理方式是“由多介质过滤器+活性碳过滤器”，传统的预处理过程中sdi值不好控制，一般大于5，不利于后续的一级反渗透系统的运行。而超滤装置的出水sdi值比较稳定，通常可保证sdi＜3，能够有效地保证一级反渗透系统的运行，且对比传统的预处理方式占地面积大的缺陷，为企业节省较高的基建费用。
南通麦科自动化在水处理行业深耕多年，结合市场对半导体制造、医药、食品等行业的需求，为各行业设计成熟、可靠、自动化程度高、高性能、高性价比的超纯水设备，不但出水电阻率能稳定达到生产需求，且优化整套工艺，综合一次性投资成本和后期运行维护费用，能有效保障后期处理设备的安全，延长设备的使用寿命。
关键词：芯片 超滤膜 反渗透膜 纯水设备 超纯水设备