在电子芯片生产中，水是必要的原料。水通常被用作切割工具，注入芯片切割机中在高压下喷出，形成切割刀刃，用于切割芯片的金属底层。此外，水还可以用于清洗芯片，去除残留物和污垢。但是，这种水并不是普通的纯净水、矿泉水。电子芯片是精密器械，任何杂质和微量元素都可能会对它的功能造成干扰。超纯水是一种只含有氢氧原子的高纯度水，去除了所有的微量元素、矿物质、离子等杂质，不会对电子芯片功能造成任何干扰。
超纯水的制备采用超纯水设备来完成。超纯水设备采用了“双级反渗透系统+edi+抛光混床”等技术相结合的工艺，它靶向离子交换系统能够针对超纯水中难处理的硼及其他离子定向去除，出水水质稳定连续。反渗透膜技术是核心处理工艺段，膜表面的特殊高分子材料不仅耐酸碱清洗、抗高污染，还能使设备系统实现带电荷运行，加快了离子迁移速度，制水时的脱盐效果更加突出。
edi模块是核心优势工艺段，发挥了重大作用。edi进水为二级反渗透产水，水质较好，脱盐后浓水水质仍旧能够优于一级反渗透产水，可回流至一级反渗透产水箱，不会产生酸碱废液，后续不需要酸碱中和处理。
总之，超纯水设备工艺设计合理，产水水质好、效率高，能为电子芯片生产企业提供巨大帮助。
关键词：芯片 控制器 电容器 传感器 电子设备