等离子清洗机中常用的工艺气体包括氧气、氩气、氮气、压缩空气、氢气、四氟化碳等。它利用气体电离产生的等离子体对工件表面进行处理。不同的工艺气体会被用来达到最佳的处理效果，那么等离子清洗机中常用的工艺气体如何选择呢？
氧气
氧气是等离子清洗常用的活性气体，属于物理+化学处理方式。电离后产生的离子可以物理轰击表面，形成粗糙的表面。同时，高活性氧离子可以与断裂的分子链发生化学反应，形成活性基团的亲水表面，从而达到表面活化的目的。
有机污染物的元素在断键后会与高活性氧离子发生化学反应，形成一氧化碳、二氧化碳、h2o等分子结构。从表面分离，从而达到表面清洁的目的。
氧气主要用于高分子材料的表面活化和有机污染物的去除，但不适合易氧化的金属表面。真空等离子体中的氧等离子体为浅蓝色，在局部放电条件下类似白色。放电环境光线明亮，肉眼观察真空室可能没有放电。
氩气
氩气是一种惰性气体。电离后产生的离子不会与基底发生化学反应。主要用于等离子清洗中的物理清洗和基片表面粗糙化。最大的特点是在表面清洗时不会造成精密电子器件表面氧化。为此，氩等离子清洗机广泛应用于半导体、微电子、晶圆制造等行业。
真空等离子清洗机中氩气电离产生的等离子体为暗红色。在相同的放电环境下，氢气和氮气产生的等离子体颜色为红色，但氩气等离子体的亮度会低于氮气，高于氢气，易于区分。
等离子清洗设备的真空系统部分，真空计一般推荐使用 inficon 的 psg500 系列，真空阀门推荐使用中国台湾日扬的 kf16、kf25 和 kf40 的气动角阀。
本公司专业服务和代理：
1、英福康（inficon）真空计、检漏仪、残余气体分析仪（rga）、晶振片；
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