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等离子清洗机,Wafer晶圆光刻胶去除

2024/3/21 14:13:26发布23次查看
等离子清洗机的表面处理可用于高分子材料、复合材料、金属、陶瓷、纤维等材料的表面清洗、活化和刻蚀等工艺,以提高材料的表面能与附着力,改善其粘接性、可印刷性、色牢度等。等离子清洗机清洗工艺已被广泛应用于晶圆加工、芯片封装、传感器、精密电子和医疗器械等领域,等离子清洗机不会改变材料表面特性和外观,能够对材料做到*清洗,工艺可控
等离子清洗机(plasma cleaner)又被称为等离子蚀刻机、等离子去胶机、等离子活化机、plasma清洗机、等离子表面处理机、等离子清洗系统等。等离子处理机广泛应用于等离子清洗、等离子刻蚀、等离子晶圆去胶、等离子涂覆、等离子灰化、等离子活化和等离子表面处理等场合,通过等离子清洗机的表面处理,能够改善材料表面的润湿能力,使多种材料能够进行涂覆、涂镀等操作,增强粘合力、键合力,同时去除有机污染物、油污或油脂.
等离子体清洗机应用于光电、电子、聚合物科学、生物医学、微流体力学等领域。例如:准确清洗小零件和微零件;涂胶前激活塑料零件;腐蚀和去除聚四氟乙烯、光刻胶等各种材料;以及疏水和亲水涂层。减摩涂层等零件。等离子清洗机还可以处理金属。半导体。氧化物和大多数聚合物材料;可以精细清洗整体、局部和复杂的结构;
采用plasma等离子清洗机针对晶圆表面处理之后,可以获得钻孔小,对表面和电路的损伤小,达到清洁、经济和安全的作用。plasma等离子清洗机的简单处理,就能通过等离子产生的自由基将高分子聚合物*清除干净,包括在很深且狭窄尖锐的沟槽里的聚合物,plasma等离子清洗机可以将很深洞中或其他很深地方将光刻胶的残留物去除掉,等离子清洗机能有效去除晶圆表面残胶。
关键词:等离子清洗机 芯片 传感器
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