hmds烘箱用于光刻前基板的疏水性处理工艺。它是将hmds（六甲基二硅胺烷）通过气相沉积的方法均匀的涂布在基底表面，使基底表面接触角增大，基底表面由亲水性变为疏水性，就会增强光刻胶的粘附性。避免了显影后光刻胶漂胶、裂胶的不良现象。
但是hmds具有一定的伤害性，大量吸入会刺激与灼伤鼻子与呼吸道器官系统，会产生头痛、呼吸困难、呼吸急销迟促、咳嗽以及眼睛红肿并感到眼睛来自刺痛与灼伤。所以，在使用过程中的安全性不容忽视。
我司hmds烘箱不同的设计原理，使得整个工艺过程都在密闭的回路中完成，并有效排出残余气体，同时具有hmds实时监测功能，具有泄露报j提示音。
温度范围：rt+10-200℃
真空度：≤1torr
操作方式：一键运行
真空泵：无油涡旋真空泵
容积：40l/90l/210l,可定制
产品兼容性：2~12寸晶圆及碎片、方片等
适用行业：mems、滤波、放大、功率等器件，晶圆、玻璃、贵金属，sic(碳化硅)、gan(氮化镓)、zno（氧化锌）、gao（氧化镓）、金刚石等第三代半导体材料。
关键词：真空泵 贵金属