技术数据■ 典型化学分析值
高纯氧化铝纯度为99.99%以上。（icp发射分析）
al2o3(%) 杂质 (ppm)
硅 铁 钠 钾 钙 镁 铜 铬 锰 你 钍
> 99.99 十 8 8 3 3 2 1 <1 <1 <0.004 <0.005
过渡氧化铝在1000℃煅烧后
■ 粒度分布
各等级粒度分布（激光衍射法）
■ 烧结特性
各等级的烧结特性
【1轴加压成型（98mpa）1小时常压烧成】
tm-dar烧结温度与晶粒尺寸的关系
tm-dar sem照片
tm-dar烧结体结构
（1350℃/1小时常压烧成）