1.设备中的真空管道、静态密封零部件（法兰、密封圈等）的结构形式，应符合gb/t的规定。
2.在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应安装真空测量规管，分别测量各部位的真空度。当发现电场对测量造成干扰时，应在测量口处安装电场屏蔽装置。
3.如果设备使用的主泵为扩散泵时，应在泵的进气口一侧装设有油蒸捕集阱。
4.设备的镀膜室应设有观察窗，应设有挡板装置。观察窗应能观察到沉积源的工作情况以及其他关键部位。
5.离子镀沉积源的设计应尽可能提高镀膜过程中的离化率，提高镀膜材料的利用率，合理匹配沉积源的功率，合理布置沉积源在真空室体的位置。
6.合理布置加热装置，一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀一致。
5.工件架应与真空室体绝缘，工件架的设计应使工件膜层均匀。
8.离子镀膜仪一般应具有工件负偏压和离子轰击电源，离子轰击电源应具有抑制非正常放电装置，维持工作稳定。
9.主要环境条件：
①环境温度：10-30℃；
②相对湿度：≤75%；
③冷却水进水温度：≤25℃；
④供电电源：380v三相50hz或220v单相50hz(由所用电器需要而定)；
⑤设备周围环境整洁，空气清洁，不应有引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。
关键词：控制柜 加热器