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FIB-SEM三束系统 NX2000

2023/12/11 5:49:39发布26次查看
追求的tem样品制备工具 在设备及高性能纳米材料的评价和分析领域,fib-sem已成为不可或缺的工具。近来,目标观察物更趋微细化;更薄,更低损伤样品的制备需求更进一步凸显。日立高新公司,整合了高性能fib技术和高分辨sem技术,再加上加工方向控制技术以及triple beam*1(选配)技术,推出了新一代产品nx2000
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fib-sem三束系统 nx2000
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追求的tem样品制备工具
在设备及高性能纳米材料的评价和分析领域,fib-sem已成为不可或缺的工具。
近来,目标观察物更趋微细化;更薄,更低损伤样品的制备需求更进一步凸显。
日立高新公司,整合了高性能fib技术和高分辨sem技术,再加上加工方向控制技术以及triple beam®*1(选配)技术,推出了新一代产品nx2000
特点规格选购件
特点运用高对比度,实时sem观察和加工终点检测功能,可制备厚度小于20 nm的超薄样品
fib加工时的实时sem观察*2例
样品:nand闪存
加速电压:1 kv
fov:0.6 µm
加工方向控制技术(micro-sampling®*3系统(选配)+高精度/高速样品台*)对于抑制窗帘效应的产生,以及制作厚度均一的薄膜类样品给予厚望。
加工方向控制
常规加工时
triple beam®*1(选配)可提高加工效率,并能使消除fib损伤自动化
eb:electron beam(电子束)
fib:focused ion beam(聚焦离子束)
ar:ar ion beam(ar离子束)
规格项目内容
fib镜筒
分辨率4 nm @ 30 kv、60 nm @ 2 kv
加速电压0.5~30 kv
束流0.05 pa ~ 100 na
fe-sem镜筒
分辨率2.8 nm @ 5 kv、3.5 nm @ 1 kv
加速电压0.5~30 kv
电子枪冷场场发射型
探测器
標準検出器in-lens 二次电子探测器/样品室二次电子探测器/背散射电子探测器
样品台x:0 ~ 205 mm
y:0 ~ 205 mm
z:0 ~ 10 mm
r:0 ~ 360°连续
t:-5 ~ 60°
选购件ar/xe离子束系统micro-sampling®*3系统缺陷检测设备联用软件cad联用导航软件eds(能谱仪)tem样品精加工向导tem样品厚度管理软件连续a-tem实时画质优化系统swing加工功能(用于triple beam®*1)等离子清洗机真空转移机构冷台
关联产品分类
场发射扫描电子显微镜 (fe-sem)透射电子显微镜 (tem/stem)
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