高精度清洗机 产品详情
项目
说明
设备名称
高精度清洗机（适用普通lcd与amoled工艺产品）
基板尺寸
g2.5~g8.5
适用工艺
适用整个lcd制程工艺中清洗需求
控制方式
cim系统+plc系统
传输方式
rollertoroller
设备类型
custommade
工艺流程
可根据不同工艺制程集成euv/plasma，brush，cj/bj，hp，hpmj，ms，ozone，ir等功能。
洁净等级
class100
tacttime
视工艺而定
工艺效果
1）高达98%以上的洗净率（1~10μm）；
2）无mura，无水痕，无rollermark。
设备特点
1）具备fixtype，scaningtype模式碎片感应；2）cim通讯功能与完善的数据记录功能；3）水平衡系统，节约用水；
4）干湿分离，传动分离，优于class100的内部工作环境；5）高精密系统，流量分布均匀性全局控制在2%以内；
6）高精密液刀、高精密风刀；7）具备槽体清洗功能，清洗液独立管路排放，减少厂务负担；8）加热器多重保护，泵浦多重保护功能；
9）完善的安全措施：软件+硬件多重保护；10）液刀、风刀智能开启与关闭功能，节约能耗。
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