产品信息 特点 可在紫外和可见（250至800nm）波长区域中测量椭圆参数 可分析纳米级多层薄膜的厚度 可以通过超过400ch的多通道光谱快速测量ellipso光谱 通过可变反射角测量，可详细分析...
光谱椭偏仪 fe-5000/5000s 产品详情
产品信息
特点
可在紫外和可见（250至800nm）波长区域中测量椭圆参数
可分析纳米级多层薄膜的厚度
可以通过超过400ch的多通道光谱快速测量ellipso光谱
通过可变反射角测量，可详细分析薄膜
通过创建光学常数数据库和追加菜单注册功能，增强操作便利性
通过层膜贴合分析的光学常数测量可控制膜厚度/膜质量
测量项目
测量椭圆参数（tanψ，cosδ）
光学常数（n：折射率，k：消光系数）分析
薄膜厚度分析
用途
半导体晶圆栅氧化膜，氮化膜sio2，sixoy，sin，sion，sinx，al2o3，sinxoy，poly-si，znse，bpsg，tin光学常数（波长色散）
复合半导体alxga（1-x）多层膜、非晶硅
fpd取向膜等离子显示器用ito、mgo等
各种新材料dlc（类金刚石碳）、超导薄膜、磁头薄膜
光学薄膜tio2，sio2多层膜、防反射膜、反射膜
光刻领域g线（436nm）、h线（405nm）、i线（365nm）和krf（248nm）等波长的n、k评估
原理
包括s波和p波的线性偏振光入射到样品上，对于反射光的椭圆偏振光进行测量。s波和p波的位相和振幅独立变化，可以得出比线性偏振光中两种偏光的变换参数，即p波和s波的反射率的比tanψ相位差δ。
产品规格
型号fe-5000sfe-5000
测量样品反射测量样品
样品尺寸100x100毫米 200x200毫米
测量方法旋转分析仪方法*1
测量膜厚范围（nd）0.1纳米-
入射（反射）的角度范围45至90° 45至90°
入射（反射）的角度驱动方式自动标志杆驱动方法
入射点直径*2关于φ2.0 关于φ1.2sup*3
tanψ测量精度±0.01以下
cosδ测量精度±0.01以下
薄膜厚度的可重复性0.01％以下*4
测定波长范围*5300至800纳米 250至800纳米
光谱检测器多色仪（pda，ccd）
测量用光源高稳定性氙灯*6
平台驱动方式手动 手动/自动
装载机兼容不可 可
尺寸，重量650（w）×400（d）×560（h）mm 约50公斤 1300（w）×900（d）×1750（h）mm 约350公斤*7
软件
分析最小二乘薄膜分析（折射率模型函数，cauchy色散方程模型方程，nk-cauchy色散模型分析等） 理论方程分析（体表面nk分析，角度依赖同时分析）
*1可以驱动偏振器，可以分离不感带有效的位相板。*2取决于短轴•角度。*3对应微小点（可选）*4它是使用vlsi标准sio2膜（100nm）时的值。*5可以在此波长范围内进行选择。*6光源因测量波长而异。*7选择自动平台时的值。
测量示例
以梯度模型分析ito结构[fe-0006]
作为用于液晶显示器等的透明电极材料ito（氧化铟锡），在成膜后的退火处理（热处理）可改善其导电性和色调。此时，氧气状态和结晶度也发生变化，但是这种变化相对于膜的厚度是逐渐变化的，不能将其视为具有光学均匀组成的单层膜。以下介绍对于这种类型的ito，通过使用梯度模型，从上界面和下界面的nk测量斜率。
考虑到表面粗糙度测量膜厚度值[fe-0008]
当样品表面存在粗糙度（roughness）时，将表面粗糙度和空气（air）及膜厚材料以1：1的比例混合,模拟为“粗糙层”，可以分析粗糙度和膜厚度。以下介绍了测量表面粗糙度为几nm的sin（氮化硅）的情况。
使用非干涉层模型测量封装的有机el材料[fe-0011]
有机el材料易受氧气和水分的影响，并且在正常大气条件下它们可能会发生变质和损坏。因此，在成膜后立即用玻璃密封。以下介绍在密封状态下通过玻璃测量膜厚度的情况。玻璃和中间空气层使用非干涉层模型。
使用多点相同分析测量未知的超薄nk[fe-0014]
为了通过拟合最小二乘法来分析膜厚度值（d）需要材料nk。如果nk未知，则d和nk都被分析为可变参数。然而，在d为100nm或更小的超薄膜的情况下，d和nk是无法分离的，因此精度将降低并且将无法求出精确的d。在这种情况下，测量不同d的多个样本，假设nk是相同的，并进行同时分析（多点相同分析），则可以高精度、精确地求出nk和d。