据媒体报道,上海微电子装备(集团)股份有限公司披露,将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。
虽然这与当今国际顶尖的7nm乃至是5nm光刻机还有数代的隔阂,但是差距已经大大缩小,毕竟在此之前国产光刻机还是90nm。
据悉,上海微电子是国内技术最领先的光刻设备厂商,从低端切入各个细分市场,现已成为封测龙头企业的重要供应商,国内市场占有率高达80%,全球市场占有率也有40%,同时旗下led/mems/功率器件光刻机性能指标领先,led光刻机市占率第一。
上海微电子现有4大系列的光刻机产品,其中600系列步进扫描投影光刻机面向ic前道制造,采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,可用于90nm、110nm、280nm工艺和200mm、300mm晶圆生产。
500系列面向ic后道先进封装,300系列面向led、mems、功率器件制造,200系列面向tft曝光。
作者:上方文q编辑:上方文q来源:快科技