近日，荷兰光刻机巨头阿斯麦（asml）公司2019年的年报中披露了关于下一代euv极紫光刻机的研发进程，预计2022年年初开始出货，2024年实现大规模生产。
新一代euv光刻机分辨率提升70％
据悉，新一代euv光刻机exe：5000系列，na（数值孔径）为0．55，na大小则代表了光刻机的精度高低，na数值越大，光刻机精度更高。
现在asml生产的euv光刻机都是第一代产品，主要是nxe：3400b和改进型的nxe：3400c，两者结构相似，物镜系统的na（数值孔径）为0．33。这意味着新一代euv光刻机分辨率相比前一代提升了70％左右，可以进一步提升精度。
asml的exe：5000系列euv光刻机主要面向3nm时代，目前台积电和三星已经开始积极量产5nm工艺芯片，3nm工艺制程路线图也早早就开始了布局，要想让技术尽快落地，exe：5000系列euv光刻机的研发极为重要。
内外兼修，asml称霸光刻机市场名副其实
光刻机是芯片制造的核心设备之一，也是世界上最复杂的精密设备之一。光刻机的制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，能够掌握这项技术的厂商寥寥无几，目前比较知名的光刻机厂商有尼康、佳能、abm、欧泰克、上海微电子装备、suss等，但是在顶级光刻机领域，却唯有asml一家独大。
asml可谓出身名门，原本是荷兰著名的电器制造商飞利浦公司半导体部门拆分出来的独立公司，1995年公司在 nasdaq与阿姆斯特丹交易所上市， 2001年更名为 asml。
名门背景只是asml成功的小部分原因，真正能让asml与世界上那么多半导体巨头捆绑在一起，还要提起asml一项特殊的规定。这项规定就是，首先要先投资asml，才能够成为asml的客户，获得优先供货权。这项规定看着奇怪，但却异常有效，也许是为了避免自己在日后的半导体大战中落后，世界各地半导体巨头纷纷注资，包括英特尔、三星、台积电、海力士等，都在asml中占据了相当可观的股份。
正如金庸老爷子笔下“内外兼修”的武林高手一般，asml除了外在资本支持以外，自身也走出了一条并购逆袭的道路：
2000年，asml收购了美国光刻机厂商svgl，市场份额反超佳能，跃升至37％，直追尼康；
2012年，asml斥资25亿美元（约合人民币174．87亿元），收购了全球知名准分子激光器厂商cymer，以此加强光刻机光源设备及技术；
2016年，asml斥资1000亿新台币（约合人民币219．34亿元）收购了台湾半导体设备厂商汉微科，为公司提供了先进的电子束晶圆检测设备及技术；
2016年asml以10亿欧元（约合人民币7．82亿元）收购了德国卡尔蔡司子公司24．9％的股份，加强自身微影镜头技术；
2019年，asml再次宣布，收购其竞争对手光刻机制造商mapper。

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