磁控溅射靶材 
（可为电子与半导体，平面显示行业，建筑与汽车玻璃行业，薄膜太阳能电池行业，磁存储行业，工具行业，装饰行业提供高品质靶材） 
高纯单质金属溅射靶材（3n-6n）：铝靶al，铬靶cr，铜靶cu，镍靶ni，硅靶si等高纯单质金属溅射靶材。
高密度陶瓷溅射靶材（3n-5n）：ito靶、azo靶，igzo靶，氧化镁靶mgo、氧化钇靶y2o3，氧化铁靶fe2o3，氧化镍靶ni2o3，氧化铬靶cr2o3、氧化锌靶zno、硫化锌靶zns等高密度陶瓷溅射靶材。 
备注：cnm生产的陶瓷靶材采用世界**进的陶瓷生产工艺；惰性气体保护热等静压烧结技术，相对密度大于95-99%。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。
高纯合金溅射靶材：镍钒合金靶ni-v，镍铬合金靶ni-cr，钛铝合金靶ti-al，硅铝合金靶si-al，铜铟合金靶cu-in，铜镓合金靶cu-ga，铜铟镓合金靶cu-in–ga，铜铟镓硒靶cu-in–ga-se，不锈钢靶，锌铝合金靶zn-al，钨钛　w-ti，铁钴　fe-co，白铜靶等高纯合金溅射靶材。 
备注：cnm生产的高纯合金溅射靶材：晶粒度小150-60um，相对密度高（99-99.9%），纯度高（99.9-99.999%）。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。

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宋坤
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