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oled显示技术具有自发光的特性，采用非常薄的有机材料涂层和玻璃基板，当有电流通过时，这些有机材料就会发光，而且oled显示屏幕可视角度大，并且能够节省电能，从2003年开始这种显示设备在mp3播放器上得到了应用。以oled使用的有机发光材料来看，一是以染料及颜料为材料的小分子器件系统，另一则以共轭性高分子为材料的高分子器件系统。同时由于有机电致发光器件具有发光二极管整流与发光的特性，因此小分子有机电致发光器件亦被称为oled(organic light emitting diode)，高分子有机电致发光器件则被称为pled (polymer light-emitting diode)。小分子及高分子oled在材料特性上可说是各有千秋，但以现有技术发展来看，如作为监视器的信赖性上，及电气特性、生产安定性上来看，小分子oled处于领先地位。当前投入量产的oled组件，全是使用小分子有机发光材料。
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电子沙盘可以融合更多的设计和新鲜元素，可以满足更多客户的个性化需求，并且更新速度更快，电子沙盘特点：（一）展示内容广。电子沙盘以简单明了，一目了然的手法可以充分体现展示内容的特点。（二）设计手法精湛。整个展示过程不落俗套，既有在传统展板上的创新，又有基于充分体现现代高新科技成就上的互动；既有场面宏大的国内大模型，又有制作精巧、竖向布局的数十个小模型；（三）展示手段先进。大量运用高科技展示手法，集声、光、电、互动项目、三维动画、影视等现代视觉效果之大成，结合趣味性、互动性与知识性，寓展于乐，实现了与观众的“互动革命”。（四）科技含量高。电子沙盘设有中央控制系统，包括总体控制，厅内照明、灯饰、计算机、电视机、操作台以及空调等强弱电系统按照预先编制的运行程序自动运行，从开启电源到并闭电源，都不需要人为控制，自动运行。电子沙盘融合了非常多的设计和新鲜的元素，给人非常震撼的感觉，更为重要的一点是电子沙盘可以进行更新，而不是需要全部替换，一旦项目的某个部分发生了改变，可以对其进行更新，不需要破坏整体的结构性。另外，电子沙盘还有这非常多的优势，例如展示的内容广，全面，可以直观的展示需要表现的所有内容；设计手法精湛，高科技下的电子沙盘，将整个展示过程加入了很多现代化的元素；展示手法先进，采用高科技的手段，将声音，光线，活动项目，三维动画等等元素都融合进来，给参观者一个非常美的视觉体验。
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oled技术的主要优点是主动发光。发红、绿、蓝光的oled都可以得到。在过去的几年中，研究者们一直致力于开发oled在从背光源、低容量显示器到高容量显示器领域的应用。下面，将对oled的潜在应用进行讨论，并将其与其它显示技术进行对比。1999年度商业化，技术仍然非常新。用在一些黑白/简单色彩的汽车收音机、移动电话、掌上型电动游乐器等。都属于高阶机种。从事oled的商业开发全世界约 100多家厂商， oled的技术发展方向分成两大类，日、韩和台湾倾向kodak的低分子oled技术，欧洲厂商则以pled为主。两大集团中除了kodak 联盟之外，另一个以高分子聚合物为主的飞利浦公司也联合了epson、dupont、东芝等公司全力开发自己的产品。2007年第二季全球oled市场的产值已达到1亿2340万美元。在中国企业方面，早在2005年，清华大学和维信诺公司决定开始oled大规模生产线建设，并终在昆山建设了oled大规模生产线；广东省也积极上马oled专案，截至2009年12月，广东已建、在建和筹建的oled生产线项目有5个，分别是汕尾信利小尺寸oled生产线、佛山中显科技的低温多晶硅tft（薄膜场效应晶体管）amoled生产线专案、东莞宏威的oled显示幕示范生产线项目、惠州茂勤光电公司am(主动式)oled光电项目、彩虹在佛山建设的oled生产线项目。根据调研公司displaysearch的报告，全球oled产业2009年的产值为8.26亿美元，比2008年增长 35%。中国成为全球oled应用大的市场，中国的手机、移动显示设备及其他消费电子产品的产量都超过全球产量的一半。
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氧化铟锡(ito)基板前处理(1) ito表面平整度：ito已广泛应用在商业化的显示器面板制造，其具有高透射率、低电阻率及高功函数等优点。一般而言，利用射频溅镀法(rf sputtering)所制造的ito，易受工艺控制因素不良而导致表面不平整，进而产生表面的尖端物质或突起物。另外高温锻烧及再结晶的过程亦会产生表面约10 ~ 30nm的突起层。这些不平整层的细粒之间所形成的路径会提供空穴直接射向阴极的机会，而这些错综复杂的路径会使漏电流增加。一般有三个方法可以解决这表面层的影响?u一是增加空穴注入层及空穴传输层的厚度以降低漏电流，此方法多用于pled及空穴层较厚的oled(~200nm)。二是将ito玻璃再处理，使表面光滑。三是使用其它镀膜方法使表面平整度更好。(2) ito功函数的增加：当空穴由ito注入hil时，过大的位能差会产生萧基能障，使得空穴不易注入，因此如何降低ito / hil接口的位能差则成为ito前处理的重点。一般我们使用o2-plasma方式增加ito中氧原子的饱和度，以达到增加功函数之目的。ito经o2-plasma处理后功函数可由原先之4.8ev提升至5.2ev，与hil的功函数已非常接近。加入辅助电极，由于oled为电流驱动组件，当外部线路过长或过细时，于外部电路将会造成严重之电压梯度，使真正落于oled组件之电压下降，导致面板发光强度减少。由于ito电阻过大(10 ohm / square)，易造成不必要之外部功率消耗，增加一辅助电极以降低电压梯度成了增加发光效率、减少驱动电压的快捷方式。铬(cr：chromium)金属是常被用作辅助电极的材料，它具有对环境因子稳定性佳及对蚀刻液有较大的选择性等优点。然而它的电阻值在膜层为100nm时为2 ohm / square，在某些应用时仍属过大，因此在相同厚度时拥有较低电阻值的铝(al：aluminum)金属(0.2 ohm / square)则成为辅助电极另一较佳选择。但是，铝金属的高活性也使其有信赖性方面之问题因此，多叠层之辅助金属则被提出，如：cr / al / cr或mo / al / mo，然而此类工艺增加复杂度及成本，故辅助电极材料的选择成为oled工艺中的重点之一。
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