玻璃镀膜技术
玻璃镀膜技术分为在线镀膜和离线镀膜，前者主要使用cvd（化学气相沉积）法、粉末涂喷法，其发展趋势为lcvd（液相热喷镀沉积镀膜技术）及pecvd法；后者包括离线cvd（化学气相沉积）、真空电弧离子镀膜技术、真空磁控溅射技术、溶胶法、喷涂法、辊涂法等。几种发展较好的、前景较为广阔的技术有：
（1）pecvd法在线制备增强透明导电tco膜（sio、sno）及low-e膜。其特点为产量大、成本2低、膜层硬度高、稳定性好、可加工性高、晶粒成长kuai速、产品保存时间长等特点。但成品率低，主线易波动，光学性能差，膜系较少。目前稳定运行一段时间就需要清洗。其需要解决的核心问题主要是：喷嘴材质（高温、环境恶劣）和加工精度、混合液成份配比、混合气氛及叠层均匀度问题。该技术主要掌握在英、美、日等少数玻璃制造商手中，国内设备供应商很少，不够成熟、稳定。大多产品处于实验室研发阶段。
（2）真空磁控溅射法离线制备ito、tco、azo、纳米自洁净（tio）、low-e、智能玻璃、cigs铜铟镓硒（cgs）等膜。其主要特点是膜层稳定和厚度易控制，均匀性好，导电率稳定，可激光划刻设计流水线，调整灵活，膜系种类多。但成本略高、膜软、产品储存时间短（需尽快后续加工封装）、设备价格高、生产工艺复杂、电导率略低、膜系牢固度略低。其需要解决的核心问题主要是：①设备/产品的精细化生产工艺的开发，并力求简单实用；②新型膜系及靶材材料和工艺的研发。由于专利和技术封锁，国内设备研发水平与国外相比差距巨大；③生产线的稳定性和自动化程度有待提高。部分关键设备的国产化有待提高。除low-e线成品率较高外，其它各线总体成品率均较低，关键设备如电源、泵、靶材大部分为进口，部分成套设备依赖进口，制造成本和生产成本较高。④磁场设计与分布及溅射离子状态的理论研究需要深化。这样既可确保膜层的稳定又可延长靶材使用时间。⑤光伏、电子镀膜设备大型化，满足大规格生产。
真空磁控溅射技术适应大面积、连续镀膜技术发展，对膜均匀性、重复性、靶材利用率方面的要求越来越高，国内外正大力推广旋转圆柱、孪生圆柱的磁性溅射靶，推广使用旋转磁控柱状的弧源离子镀膜术。
（3）溶胶法、喷涂法、辊涂法等离线制备增透膜、纳米自洁净膜、碲化镉与cgs膜等。主要特点是成本低、效率高、产量大、设备投入少。缺点是膜层不易控制，厚薄不均，致密度较低，晶格生长畸形、成品率低。需要解决的核心技术主要有：浆液成份配比及生产工艺、设备制造精度及膜层厚度控制、温度分区控制晶格生长、成品率不高等。

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