值得一提的是，中微半导体也是唯一进入台积电7nm制程蚀刻设备的大陆本土设备商。据悉，中微半导体与台积电在28nm制程时便已开始合作，并一直延续到10nm和7nm制程。
中微半导体首席专家、副总裁倪图强博士表示，刻蚀机曾是一些发达国家的出口管制产品，但近年来，这种高端装备在出口管制名单上消失了。这说明如果我们突破了“卡脖子”技术，出口限制就会不复存在。如今，中微与泛林、应用材料、东京电子、日立4家美日企业一起，组成了国际第一梯队，为7nm芯片生产线供应刻蚀机。
他还表示，明年台积电将率先进入5nm制程，已通过验证的国产5nm刻蚀机，预计会获得比7nm生产线更大的市场份额。
在半导体制造过程中，光刻机是决定工艺水平的关键，所以光刻机在媒体上的曝光率很高，不过现在的的半导体工艺涉及数百道工序，除了最核心的光刻之外，刻蚀也是很重要的一个过程——将晶圆浸入内含蚀刻药剂的特制刻蚀槽内，可以溶解掉暴露出来的晶圆部分，而剩下的光刻胶保护着不需要蚀刻的部分。
刻蚀机就是处理这部分工艺的，与光刻机相比，刻蚀机的价格就要低多了，通常在500万美元以内，不过需要的数量比光刻机更多，所以也是非常重要的半导体制造装备，全球领先的刻蚀机设备公司主要还是lam、amat应用材料等半导体设备巨头，国内主要是中微电子amec及北方华创两家。
5nm刻蚀机意味着什么？
说完背景知识，现在报道的这个5nm等离子刻蚀机就是中微电子生产的，实际上这件事已经是旧闻了，2017年3月11日中微电子就通过央视cctv2频道宣布研发成功5nm等离子刻蚀机，现在则是刻蚀机通过了大客户台积电的验证，可以用于5nm生产线了，只不过台积电的5nm工艺还在研发中，明年才会试产，量产至少是2020年的事了。
需要注意的是中微半导体5nm刻蚀机的研发成功和获得台积电采用，并不代表着中国大陆就可以自己生产5nm工艺芯片了。因为芯片的生产工艺非常的复杂，刻蚀只是众多关键环节当中的一环。
但是，很多自媒体为了吸引眼球，却往往故意夸大事实，以点概面，以5nm刻蚀机这一个环节上的突破，就大肆宣扬“中国已打破国外垄断，掌握5nm技术”、“中国已可以制造5nm芯片”。
中微半导体ceo尹志尧尹志尧今年在接受采访时再次强调：“宣传要实事求是，不要夸大，更不要为吸引眼球，无中生有，无限上纲。说我们的刻蚀机可以加工5纳米器件，也只是100多个刻蚀步骤中的几步。”
确实，正如我们前面所说，刻蚀只是芯片制造众多关键环节当中的一环，在先进制程的刻蚀设备领域取得突破虽然可喜，但是在其他如光刻机等领域，中国仍处于严重落后。目前国内进展最快的上海微电子也只是实现了 90nm 光刻机的国产化。
当然，我们也不能妄自菲薄，除了中微半导体之外，不少国产半导体设备厂商也在一些相关领域的先进制程设备上取得了突破。比如，在14nm 领域，硅/金属刻蚀机（北方华创）、薄膜沉积设备（北方华创）、单片退火设备（北方华创）和清洗设备（上海盛美）已经开发成功，正在客户端进行验证。
相信随着国产半导体设计及设备厂商的努力，以及中国半导体市场的需求快速增长的拉动，中国芯将会越来越强大。