简单介绍：
电子束蒸发镀膜仪系统主要由蒸发真空室、e型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。可以广泛应用于制备高纯薄膜和导电玻璃等各种光学材料薄膜。
详情介绍：
电子束蒸发镀膜仪设备用途：
用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等，广泛应用于大专院校、科研机构的科研及小批量生产。
技术参数：
结构形式
真空室采用u型箱体前开门，后置抽气系统
真空室
500×500×600mm2
真空系统配置
复合分子泵、机械泵、闸板阀
极限压力
≤6. 67×10-5pa (经烘烤除气后）；
恢复真空时间
45分钟可达到6. 67×10-4pa (系统短时间暴露大气并充干燥 氮气后）
电子束
蒸发源
e型电子枪
阳极电压：6kv、8kv;
数量（套）
1
坩埚
水冷式坩埚，四穴设计，每个容量11ml
功率
0一6 kw可调
电阻蒸发源 (可选）
电压
5、10v
功率
电流300a，*大输出功率3kw
数量
1套，可切换
水冷电极
3根，组成2个蒸发舟
工件架类型及尺寸
基片尺寸：可放置4”基片，加热zui高温度800℃±1℃ ,基片可连续回转，转速5~60转/分 基片与蒸发源之间距离300~350mm可调，手动控制样品挡板组件1套
气路系统
200sccm质量流量控制器1路
石英晶振膜厚控制仪
监测膜厚显示范围：0~99 u 9999a;
设备占地面积
主机
900×800mm2
电控柜
800×800mm2 (两个）

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