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瑞泽半自动氩气净化器光谱仪配套设备

2019/7/30 6:02:19发布68次查看
cza系列型光谱分析用氩气净化机氩气净化器氩气净化装置现货销售
净化原理
该净化机利用催化剂促使氩气中的微量氧气与碳反应生成二氧化碳,从而除去氩气中的杂质氧气,再利用分子筛吸附脱除氩气中的h2o、co2等杂质,再利用合金吸附剂吸附脱除氩气中剩余的的n2等惰性杂质,即可得到高纯氩气。
氩气净化机的技术参数
 对原料氩气要求
一般瓶装纯氩,液氩、控制较好的管道氩气。
杂质要求: o2≤1000ppm, h2o≤1000ppm。
 输出纯气
纯度:99.9999%
杂质含量:
o2≤0.1ppm,
h2o≤1ppm(即露点≤-76℃),
n2≤0.5ppm
co+co2≤0.1ppm,
s、p的氧化物≤0.1ppm。
尘埃粒子数(≥0.3μm)3-5个/升。
工作压力:0.4-0.8mpa。
 处理气量:4nm3/h。
设备尺寸:600mm×700mm×1600mm
设备重量:150kg
设备特点
1)  催化剂活性高,净化后的气体纯度高。
2)  双式结构,一组工作另一组再生备用,故能长期连续供气。
3)  采用本机纯气吹扫的再生流程,再生不用氢,故不需专用机房,安全性好。
4)  cza-4c对再生具有自动功能,操作比老产品更简单,并且不易出错,性能也更稳定可靠。
5)  cza-4c克服了老产品偶尔会产生“假断偶保护”使再生不能进行的缺点。
6)  系统采用零泄露的波纹管阀门,设备的可靠性更高。
7)  采用分级净化的原理,预先除去氩气中的活性杂质,如o2、h2o、co2等,再深度净化,大大延长了设备的使用寿命。
8)  增加了除氮功能,氩气的纯度更高。
cza-4c型氩气净化机可与美国热电,德国斯派克、obfl、布鲁克;瑞士arl,牛津光谱、日本岛津,北京纳克,英国阿朗,北京瑞利等多家光谱仪公司生产的直读光谱仪、荧光光谱仪、辉光光谱仪配套使用,以增强分析数据的可靠性和稳定性,同时可以较大的节省购买高纯氩气的成本。该型机器尤其适用于与带氮通道的直读光谱仪配套使用,同时该净化机也可用作高纯材料(如单晶硅、多晶硅、高纯金属)生产的保护气氛。
售后服务
为了解除用户选用我公司产品的后顾之忧,我们一贯奉行如下的满意服务标准。
1.如果产品本身存在任何质量问题,我公司负责包修,包换,包退;2.如果产品在运输途中损坏,我公司负责包修,包换,包退;
3.在保修期内的使用损坏,我公司负责包修,包换,包退;
4.产品的免费保修期为一年;
5.我公司提供终身有偿维修服务,只收取相关维修材料费用及差旅费用。
高纯氩气纯化设备
概述
氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气体,为了提高硅晶体的质量,如何选用较高纯度的氩气,是制作硅晶体的一个议题。通过对本装置的使用,氩气的纯度其中氧含量小于1ppm时,水分也小于1ppm时,制作出的单晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm,这样就提高了单晶的使用寿命并能达到要求,赢得客户的满意和市场的需求。
由于一般液氩汽化后未经过纯化处理,它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有时气体供应商提供的氩气超过了此范围,使用氩气的客户不知道其质量,所以往往给生产产品质量造成影响。有了氩气纯化装置后不论氩原料气的质量如何,只要经过纯化装置的处理后,进入拉晶炉的氩气,纯度始终是恒定的。
一般氧含量小于0.5ppm,水分小于1ppm,这样稳定的氩气对生产晶体的质量是有保证的。
关于氩气纯化的方法
第一种
直接脱氧法。就是使用活性金属与氩气中的氧气进行反应,消化掉氩气中的氧气,从而达到脱氧的目的,经过分子筛吸收掉氩气中的水份,使氩气的含水量小于1ppm。
第二种
    是采用吸气剂。在一定温度下,吸气剂可吸收氮、氢、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷等气体经吸收处理后,氩气的纯度可达到6个九,这种保护气体更适用于制作高纯度的半导体的单晶硅。
利用吸气剂纯化后氩气的纯度:
                           o2≤0.2ppm
                           h2≤0.5ppm
                           n2≤1ppm
                           co+co2≤0.5ppm
                           ch4≤0.5ppm
                           水份≤1ppm
第一种方法设备投资小,设备中脱氧剂的使用寿命一般大于四年。
第二种方法设备纯化纯度高但投资相对较大,吸气剂使用寿命为两年。
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:本公司也可根据客户要求,直接做高压的,这样就可省掉使用模压机增压工序。
     还可根据客户要求,配备分析仪在线时时检测设备中气体纯度。
氩气用途
    高纯氩气用于焊接、不锈钢制造、冶炼,还用于半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气。
主要用途:欢迎新老用户选择我公司产品:氩气净化机,氩气净化器,高纯氩气净化,高纯氩气净化设备,高纯氩气纯化设备,高纯氩气纯化装置,yac系列氩气净化设备,全自动氩气纯化设备,大型氩气净化设备,硅材料行业用氩气净化设备,硅材料用除氧、除水氩气纯化装置,气站专用氩气净化设备,气站专用氩气纯化器,气站用高纯氩设备,单晶硅行业用氩气除氧、干燥设备,多晶硅行业用氩气除氧、干燥设备,高纯氩气提纯设备,氩气提纯机,高纯氩气过滤器。

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