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管式炉、热科炉业、垂直管式炉

2019/6/8 22:50:14发布50次查看

管式加热炉主要结构
燃烧器结构及作用:
燃烧器是管式加热炉的重要部件之一,加热炉所需热量是通过燃料在燃烧器中燃烧得到的,一个完整的燃烧器包括燃料喷嘴、配风器和燃烧道三个部分。
1、喷嘴的主要任务是燃料油雾化并形成便于与空气混合的良好条件。
2、配风器是分配和输送燃烧空气的机构,其作用是供给燃料适量的空气,并使空气和燃料迅速完善的混合。用于烧油的配风器将供给的空气分成一次风和二次风.一次风解决着火、稳燃和减少碳黑生成等问题,二次风供给大量空气以保证完全燃烧。
3、燃烧道的耐火材料蓄积的热量为火焰根部提供热源,加速燃料油的蒸发和着火,有助于形成稳定的燃烧;其次它能约束空气,迫使其与燃料混合而不止散溢;第三是与配风气一起使气流形成理想的流型。
分类
cvd技术常常通过反应类型或者压力来分类,包括低压cvd(lpcvd),常压cvd(apcvd),亚常压cvd(sacvd),超高真空cvd(uhcvd),等离子体增强cvd(pecvd),高密度等离子体cvd(hdpcvd)以及快热cvd(rtcvd)。然后,还有金属有机物cvd(mocvd),根据金属源的自特性来保证它的分类,这些金属的典型状态是液态,在导入容器之前必须先将它气化。不过,容易引起混淆的是,有些人会把mocvd认为是有机金属cvd(omcvd)。
过去,对lpcvd和apcvd最常使用的反应室是一个简单的管式炉结构,即使在今天,管式炉也还被广泛地应用于沉积诸如si3n4 和二氧化硅之类的基础薄膜(氧气中有硅元素存在将会最终形成为高质量的sio2,但这会大量消耗硅元素;通过硅烷和氧气反应也可能沉积出sio2 -两种方法均可以在管式炉中进行)。
最近,单片淀积工艺推动并导致产生了新的cvd反应室结构。这些新的结构中绝大多数都使用了等离子体,其中一部分是为了加快反应过程,也有一些系统外加一个按钮,以控制淀积膜的质量。在pecvd和hdpcvd系统中有些方面还特别令人感兴趣是通过调节能量,偏压以及其它参数,可以同时有沉积和蚀刻反应的功能。通过调整淀积:蚀刻比率,有可能得到一个很好的缝隙填充工艺。
产品优势:
这款管式炉以电阻丝(瑞典 canthal a1)为加热元件,采用双层壳体结构和30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、cvd实验、真空退火用的理想产品.。
软件控制系统(选购):该炉配有通讯接口和软件,可以直接通过电脑控制炉子的各个参数,并能从电脑上观察到炉子上pv和sv温度值和仪表的运行情况,炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出,并能把每个时刻的温度数据保存起来,随时可以调出。

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