近年来,人们发现用兆声波(根据超声波的频率不同,把40 khz及其以下的称为常规或低频超声波,把1 000 khz以上的称为高频超声波,又称兆频超声波,简称兆声波)清洗可以去除掉半导体材料表面上的超细污垢微粒,并且不会损伤基底材料的表面。目前这项技术已经得到了很快的普及。
清洗介质：采用超声波清洗，一般有两类清洗剂即化学溶剂和水基清洗剂。清洗介质的化学作用可以加速超声波 清洗效果，超声波清洗是物理作用，两种作用相结合，依对物件进行充分、彻底的清洗。
功率密度：超声波的功率密度越高，空化效果越强，速度越快，清洗效果越好，但对于精密的表面光洁度甚高的物件，采用长时间的高功率密度清洗会对物件表面产生空化、腐蚀。
超声频率：适用于工件粗、脏、初洗，频率高则超声波方向性强，适合于精细的物件清洗。
清洗高温：一般来说，超声波在50°c~60°c时的空化效果最好，清洗剂也不是温度越高，作用越显著，有可能会高温失效，通常超声波在超过85°c时，清洗效果已变差。所以实际应用超声波清洗时，采用50°c~70°c的工作温度。
1、槽体采用加厚（2.0）不锈钢sus304；
2、超声功率可0-百%任意调节，频率28khz、40khz可任意选择，适用不同清洗要求，彻底解决清洗盲区；
3、加热系统30-110℃可调；
4、二十四小时连续工作，适应大批量清洗；
5、先进的第二代发生器，独特的扫频功能，转换效率达97%；
7、流水线大批量生产，品质一致性高，成本控制良好；
此设备由超声波清洗槽、超声波漂洗槽，纯水切水槽、抛动装置、切水装置、储液槽、加热系统、循环过滤系统、烘干室（门自动提升装置）等组成。
适用范围：精密光学镜片、液晶显示板、透镜、棱镜、显微镜片等的清洗
清洗流程：上料→中性液超声波清洗（设抛动、过滤、储液槽加热）→中性液超声波清洗（设抛动、过滤、储液槽加热）→纯水超声波清洗（设抛动）→纯水超声波清洗（设抛动）→纯水超声波清洗（设抛动）→纯水超声波清洗（设抛动、过滤、储液槽加热）→纯水切水槽（设切水装置、过滤、储液槽加热）→烘干（红外线、门自动提升装置）