gas pressure sintering plants fpw—2mpa -20mpa烧结氮化硅、硅铝氧氮陶瓷、碳化硅、 硬质合金及复合材料 for sintering of silicon nitride, sialon, silicon carbide ,hard and compositematerials 过去数年间，基于氮化硅和碳化硅基础上的结构陶瓷材料的气压烧结技术 已经从实验室阶段发展到成熟的产品生产阶段。 fct提供从炉子从1升到500升，温度2500℃，10mpa（可到20mpa），n2 或ar气氛下的气压烧结炉。 对于大型工件，设计了“底装料”结构炉型，装卸 料方便，尤其在脱脂、气压烧结和之后的加工工序之间转换非常便捷。 伴随压力的增加，对于容积较大的炉型，温度均匀 性是气压烧结炉比较难于解决的问题，fct的气压 烧结炉采用多区控温，每个温区单独控温。此炉型 三区控温能保证真空常压及高压状态下，温度均匀 性为5℃。 对于特殊的粉末冶金及结构陶瓷，烧结气氛的控制十分关键。 fct拥有精确的气体控制技术。 采用fct居于世界领先地位的气压烧结炉，用于您的 结构陶瓷、复合材料及特种材料产品！ fpw气压烧结炉-电阻加热/1mpa—20mpa pressure sintering furnaces fpw 型号
热区直径
热区高度
有效容积
加热功率
装料方式
（mm）
（mm）
升
（kw）*
（-）**
fpw 100/120-2200
100
120
1
20
tl
fpw 125/180-2200
125
180
2
25
tl
fpw 180/250-2200
180
250
4
40
tl
fpw 250/315-2200
250
315
12
60
tl
fpw 315/900-2200 315
900
45
100
bl
fpw 400/1200-2200 400
1200
100
150
bl
fpw 500/1200-2200 500
1200
175
200
tl/bl
fpw 600/1600-2200 600
1600
320
250
bl
fpw 710/1800-2200
710
1800
530
300
tl/bl
t=2200℃；p=10mpa**tl=顶装料，bl=底装料 fpw型：315/900-2200-100-ps 温度：2200℃ 压力：100bar 用于陶瓷产品的高温气压烧结炉 特点： ● 标准工作温度2000℃（可达2500℃） ● 可以进行脱脂/脱蜡、烧结、气压烧结工艺 ● 标准真空：5×10-1mbar（可达5×10-3mbar） ● 快速冷却系统（高压、循环） ● 标准工作压力：1mpa,10mpa(或20mpa)● 调整后的特殊尺寸和功能 ● 装料和操作装置（从成型到烧结到机械加工 联系人：赵先生 联系方式： tel:010-6280 0745 010-8238 8332 fax:010-6280 0745email:info@afi-furnace.com

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赵先生
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马甸东路