产品型号：cy-o1200-60-4clv-pe
主要用途：等离子体增强型化学气相沉积（pecvd）技术是借助于辉光放电（等离子体）使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜生长的一种制备技术。我公司综合了多项实验要求设计生产了该款等离子pecvd系统，能广泛适应各类薄膜研究的需要比如：石墨烯制备、c纳米材料制备、氧化物制备。是一款不可多得的薄膜制备器材
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·        产品介绍
一、等离子pecvd系统特点：
1、与普通的cvd系统相比，因为有等离子源的介入,系统的沉积温度相对较低。
2、配备有滑轨式管式炉可以轻松实现快速降温，实现快速退火。   
3、操控界面可配备液晶操作系统，图文显示，直观易懂，对于设备的使用操作简单易学 
4、该系统最高工作温度接近1150℃，能满足大多数热处理场合。   
5、该设备可具体用于：碳、 zno 纳米管或纳米线的制备也可以用于制备单层石墨烯以及各种cvd实验 。
二、技术参数：
等
离
子
发
生
器
输出功率:          5 ～500w    ± 1% . 
射频频率:          13.56 mhz    ±0.005% .
反射功率:          最大约200w 
阻抗匹配:          自动
真
空
泵
机
组
双极旋片泵, 极限真空0.1pa
kfd25 快接，不锈钢波纹管，手动挡板阀与法兰，真空泵相连.
管内真空可达1pa
可选：本公司进口的防腐型数字式真空显示计，其测量范围为3.8x10-5 至 1125 torr. 不需因测量气体种类不同而需要系数转换。（需要另外计算费用）
质量流量计
三通道的质量流量计(精度0.02% ) ：数字显示，自动控制.
mfc 1范围:  0~100 sccm 
mfc 2和3:    0~500 sccm  
一个混气罐，底部装有泄废液口. 
进气接口: 1/4nps. 
出气接口: 1/4nps.
水冷系统
水冷法兰要求：水流量 >= 10l/m ，配有专业水冷机组。
管式炉
炉管直径：80mm
炉管长度：1400mm
炉膛长度：440mm
控温精度：±1℃
工作温度：≦1200℃

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郑州成悦科学仪器有限公司
宋生
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