一、产品简介
pecvd 增强型化学气相沉积系统是一款经过ce认证的等离子增强型化学气相沉积管式炉。它包括一台500瓦的射频等离子源、一台内径50毫米的裂解管式炉、配有4通道质量流量计的气体混合容器、以及一台机械真空泵。
这套pecvd系统是一台气态条件下，在固体表面上沉积薄膜和生长纳米丝的理想工具。
本系统除了提供理想的功能，在同类产品中价格低廉，使许多相关研究人员从中受益。
二、主要特点
1、与常规的化学气象沉积方式比较，成膜温度降低；.
2、由于频率可调，膜的应力可以控制；
3、各种气体的混合比例可控；
4、可供多种材料进行沉积实验，例如siox, sinx, sioxny 和非晶态的硅材料 (a-si:h) 沉积。
三、主要技术参数
1、最高工作温度：1200oc；
2、30段程序数字显示控温器；
3 、温区总长度：440 mm，恒温区长度：150 mm l；
· 4、石英管长度：外径60mm x 内径53mm x 长度1200mm；
5、1对带有阀门的真空密封法兰；
6、电源：交流220伏，最高功率4千瓦；
7、输出功率：（管式炉除外）5-500瓦；
8、频率：13.56mhz±0.005%；
9、反射功率：200瓦；
10、调整：自动；
11、射频输出端口： 50 ω, n-型,内插口；
12、噪音：小于50分贝；
13、冷却：水冷。
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