“造成与国际水平差距的原因很多。过去由于我国在开始规划发展集成电路产业上，布局不合理、不完整，特别是生产加工环节的投资，而忽视了最重要的基础材料、装备与应用研究。目前，光刻胶，整个产业是中间加工环节强，前后两端弱，核心技术至今被tok、jsr、住友化学、信越化学等日本企业所垄断。
光刻胶的主要技术指标有解析度、显影时间、异物数量、附着力、阻抗等。每一项技术指标都很重要，必须全部指标达到才能使用。因此，光刻胶哪里有，国外企业在配方、生产工艺技术等方面，对中国长期保密。中国的研发技术有待进一步发展
光刻胶市场
据统计资料显示，2017年中国光刻胶行业产量达到7.56万吨，较2016年增加0.29万吨，其中，中国本土光刻胶产量为4.41万吨，与7.99万吨的需求量差异较大，说明我国供给能力还需提升。
国内企业的光刻胶产品目前还主要用于pcb领域，代表企业有晶瑞股份、科华微电子。
在半导体应用领域，进口光刻胶厂家，随着汽车电子、物联网等发展，会在一定程度上增加对g线、i线的需求，利好g线、i线等生产企业。预计g线正胶今后将占据50%以上市场份额，i线正胶将占据40%左右的市场份额，duv等其他光刻胶约占10%市场份额，给予北京科华、苏州瑞红等国内公司及美国futurrex光刻胶较大市场机会。
北京赛米莱德贸易有限公司供应美国futurrex新型lift-off光刻胶nr9-3000py，此款负胶的设计适用于比较宽的波长范围和i线（366纳米）曝光工具。当显影后nr9-3000py显示出负的侧壁角度，是lift-off工艺中比较简易的光刻胶。和其他胶相比nr9i-3000py有下面的优势： 1. 比较高的光刻速度，可以定制光刻速度来曝光产量 2. 比较高的分辨率和快的显影时间 3. 根据曝光能量可以比较容易的调整侧壁角度 4. 耐温可以达到100摄氏度 5. 用rr5去胶液可以很容易的去胶 nr9-3000py的制作和工艺是根据职业和环境的安全而设计。在nr9-3000py里主要的溶剂是，nr9-3000py的显影在水溶液里完成。属固含量（%）：31-35 主要溶剂：外观： 浅液体涂敷能：均匀的无条纹涂敷 100摄氏度热板烘烤300秒后膜厚涂敷自旋速度 40秒自旋。
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