电子半导体行业高纯水设备
水质要求
     微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清�窗氤善贰⒊善贰＜傻缏返募啥仍礁撸运实囊笠苍礁撸庖捕猿克砉ひ占安返募蛞仔浴⒆远潭取⑸牧浴⒖沙中缘忍岢隽烁友细竦囊蟆ｖ泄缱庸ひ挡康缱蛹端始际醣曜挤治寮叮�18mω·cm、15 mω·cm、10 mω·cm、2 mω·cm 、0.5 mω·cm），具体指标请参考电子级水质技术标准。
      典型工艺流程
      ●预处理→一级反渗透系统→ph调节装置→中间水箱→二级反渗透系统→纯水箱→纯水泵→用水对象【电阻率≥0.5mω·cm】
       ●预处理系统→反渗透系统→纯水箱→纯水泵→体内再生混床→精密过滤器→用水对象【传统工艺，电阻率≥2mω·cm】
       ●预处理系统→反渗透系统→ro纯水箱→ro纯水泵→edi装置→edi纯水箱→edi纯水泵→用水对象【≥10-15 mω·cm，荐新工艺】
       ●预处理→双级反渗透系统→ro纯水箱→纯水泵→抛光混床→用水对象【电阻率≥2-10mω·cm】
      ●预处理→双级反渗透系统→紫外线杀菌器→ro纯水箱→ro纯水泵→edi装置→edi纯水箱→edi纯水泵→用水对象【≥15-17 mω·cm，推荐新工艺】
      ●预处理→双级反渗透系统→紫外线杀菌器→ro纯水箱→ro纯水泵→edi装置→edi纯水箱→edi纯水泵→抛光混床→微孔膜过滤器→用水对象 【≥18 mω·cm，最新工艺】
典型案例
额定产量：500升/小时 
    额定产量：3吨/小时
产水水质：电阻率≥0.5mω·cm
    产水水质：电阻率≥5mω·cm
采用工艺：双级反渗透
    采用工艺：反渗透+体内再生混床
典型用户：苏州天瑞电子
   典型用户：无锡三达电子
应用范围：电子产品清洗 
    应用范围：电子元器件清洗
额定产量：3吨/小时
    额定产量：2吨/小时
产水水质：电导率≤3μs/cm 
    产水水质：电阻率≥15 mω·cm
采用工艺：双级反渗透
    采用工艺：双级反渗透+edi
典型用户：江苏达科电子
    典型用户：江苏海德旺斯
应用范围：高能电子
    应用范围：光伏新材料

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苏州工业园区汇泉水处理设备销售中心
陆晓光
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