mos电容的gate电位是0v。金属gate和半导体backgate在work function上的差异在电介质上产生了一个小电场。在器件中,这个电场使金属极带轻微的正电位,p型硅负电位。这个电场把硅中底层的电子吸引到表面来,它同时把空穴排斥出表面。这个电场太弱了,所以载流子浓度的变化非常小,对器件整体的特性影响也非常小。
当mos电容的gate相对于backgate正偏置时发生的情况。穿过gate dielectric的电场加强了,有更多的电子从衬底被拉了上来。
同时,空穴被排斥出表面。随着gate电压的升高,会出现表面的电子比空穴多的情况。由于过剩的电子,硅表层看上去就像n型硅。
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