磁控溅射镀膜工艺在业界生产及研发领域有非常广泛的应用。纳峰科技以多年的真空设备设计及制造经验为依托，配备多样化的专业镀膜工艺，可为广大客户提供更人性化、更优质的磁控溅射镀膜机台。此外，由于采用特殊设计的样品转台，纳峰的磁控溅射系统可实现多镀膜源、多材料共沉积，基片可加偏压及高温达1000°c，并可添加真空锁机构。
 系统配置
规格
真空室
(φ) 1.5mx (h) 1.5m
样品支架
尺寸 :(φ)1.2m x (h) 1.2m，行星式自转
镀膜范围
(φ)1.2m x (h) 1m
镀膜时间
约4小时/炉（包括抽真空、等离子清洗、镀膜、放气）
磁控溅射源
1~6个平面溅射靶（1.2mx 150mm）。1~8对柱状靶 (可混装)，配备直流或中频磁控溅射电源
fcva镀膜源 (选配)
可选放
偏压源
配备高频高压直流脉冲偏压源（1套）
离子束源 (选配)
直流氩离子高能轰击（2套，dc=1200~1500v）
高真空泵
涡轮分子泵（多台，视工艺而定）
机械泵 (初抽泵)
70 l/秒，3套（可升级到德国泵组）
罗茨泵
300 l/秒，1套（可升级到德国泵组）
气压监测
电容压力计，多路mfc流量控制（全进口器件）
程序控制
plc程序控制，安全内锁，工业pc及触摸屏人机界面
可实行“一键式”全自动操作模式
观察窗口
φ 100mm 嵌于真空室门上，配有挡板

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纳峰真空镀膜（上海）有限公司
沈蓉
18017150832
青浦区华纺路99弄99号