sef-g5:激光刻膜机
激光刻膜机技术参数:
型号规格 sef-g5
有效加工幅面
1.1m×1.4m(或635mm×1245mm )
最大运行速度
2000mm/s
重复定位精度
±10μm
刻线直线度
±10μm / 1000 mm
典型刻膜线宽
30～60μm
三线外沿总宽度
300～500μm
选项和配件:
高标配,可根据需要移除不需要的部件。 激光刻膜机应用和市场: 非晶硅薄膜太阳电池的透明导电膜(sno2、azo、ito)、非晶硅膜系(a-si、μc-si)、背电极膜(zno、al)等的激光刻膜(刻线、切割),其它薄膜电池的膜层刻膜(金属钼mo薄膜、金属镍ni薄膜、碲化镉cdte薄膜)。 售前服务
一、提供技术咨询:我们会在10个小时以内,根据您的需要为您提供任何专业的技术及价格方面的咨询、并且邮寄相关样品及产品资料,或者及时对于您所关心的任何问题给予快速回复,比如:加工工艺在不同材质上的应用区别,加工时间与花形花色的关系等等。
二、提供考察接待:我们欢迎您随时随地莅临公司现场考察,并为您提供任何便利条件。
售中服务
一、无论您是国外的客户还是国内的客户,无论您是我们的老客户还是我们的新朋友,无论您的合同经额是大还是小,我们都将诚信、公平、热情、严谨地同一对待；
二、我们保证守时、保质、保量地严格执行合同规定的各项条款,并且为客户提供超值的服务,比如安装、培训等等。
售后服务
我们建立了全球售后服务信息处理系统,24小时跟踪客户。
一、自购实到货之日起,终身享受软件免费升级。
二、自购买之日起,随时可以到公司免费参加各种技术培训班。
三、在国内维修服务点,300公里以内,我们承诺24小时内上门服务并维修,300公里以外72小时内维修。国外的客户我们在10小时以内做出回复,72小时内做出维修服务。
武汉三工光电设备制造有限公司中山分公司
王小姐
15927211280
湖北武汉东湖新技术开发区武汉大学科技园武大园四路
