cm-s700主要由高纯度胶态二氧化硅组成，特别适用于2-6寸gaas晶片的抛光，具有稳定性和分散性良好，去除率高、表面粗糙度小以及对工件无损伤等优点。即使在稀释倍率很高的情况下使用，仍具有很好的抛光效率和使用寿命。
cm-s700 is a colloidal silica slurry developed especially for polishing 2-6 inches gaas wafer, with excellent particle stability and dispersal, it possesses a high removal rate, good surface effects and damage-free polishing. even when used at high dilutions, cm-s700 delivers excellent processing efficiency and long slurry life.
型号type             
项目 item
精抛
粗抛
sio2含量content of sio2 (%)
15±2
35±2
ph  (20℃)
10.0±0.5
10.0±0.5
比重  specific gravity (20℃)
1.09±0.02
1.23±0.02
粘度 viscosity (20℃，cps)
≤30
≤18
碱游离度 
free alkalinity as na2o% m/m
平均粒径 
average particle size (nm)
15-25
40-50
杀菌剂含量 
biocide content (ppm)
用途  
application
精抛
 final polishing
粗抛 
first polishing
包装  package 
5kg,  25kg,  260kg,  1t
符合rohs标准  rohs compliant
储存条件：放置阴凉通风处，5℃-35℃条件下保存,保质期为1年。  
storage: placed in a cool well-ventilated place, between 5℃and 35℃ storage, the shelf life is 1 year.

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天津西美半导体材料有限公司
张丙明
15022146630
精武镇永红工业园