光氧废气装置（一重破坏、分解，三重催化氧化）
破坏
采用高能c波段（仅次于切割不锈钢的激光，强于氩弧焊光源的数十倍强度）在设备内，强裂解恶臭物质分子链，改变物质结构，将高分子污染物质，裂解、氧化成为低分子无害物质，如水和二氧化碳等。
催化氧化
1、o3强催化氧化剂进行废气催化氧化，可有效地杀灭细菌，将有毒有害物质破坏且改变成为低分子无害物质。
2、催化剂涂层，在c波段激光刺激它产生活性，强化催化氧化作用。
3、在分解过程中产生高能高臭氧uv紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。uv+o2→o-+o*（活性氧）o+o2-o3（臭氧），众所周知臭氧对有机物具有极强的氧化作用，对恶臭气体及其它剌激性异味有极强的清除效果。o3也为强催化氧化剂进行废气催化氧化，裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸（dna），再通过臭氧进行氧化反应，彻底达到脱臭及杀灭菌的目的。
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